南京航空航天大学陶杰获国家专利权
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龙图腾网获悉南京航空航天大学申请的专利一种在不锈钢阵列表面复合超疏水涂层的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117463589B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311457667.X,技术领域涉及:B05D5/08;该发明授权一种在不锈钢阵列表面复合超疏水涂层的方法是由陶杰;沈一洲;艾吐汉·叶尔肯;江家威设计研发完成,并于2023-11-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种在不锈钢阵列表面复合超疏水涂层的方法在说明书摘要公布了:本发明涉及不锈钢表面处理技术领域,公开了一种在不锈钢阵列表面复合超疏水涂层的方法,包括:步骤1,在基底材料表面加工光刻胶结构,制得含有光刻胶结构的基底;步骤2,将含有光刻胶结构的基底依次在HF溶液、HF与H2O2的混合溶液中刻蚀,制得具有阵列结构的基底;步骤3,去除具有阵列结构的基底的表面光刻胶,制得基底材料阵列表面;步骤4,向基底材料阵列表面喷涂低密度聚乙烯微米颗粒、PTFE纳米颗粒和无水乙醇的混合液,干燥,得到表面喷涂有复合超疏水涂层的基底材料;步骤5,将所得基底材料烧结处理后冷却,获得复合超疏水涂层。采用本发明方法制得的复合超疏水涂层具有优异的疏水性、耐腐蚀与耐磨性能。
本发明授权一种在不锈钢阵列表面复合超疏水涂层的方法在权利要求书中公布了:1.一种在不锈钢阵列表面复合超疏水涂层的方法,其特征在于,包括以下步骤: 步骤1,在基底材料表面加工光刻胶结构,制得含有光刻胶结构的基底; 所述基底材料为不锈钢; 步骤2,将所述含有光刻胶结构的基底依次在HF溶液、HF与H2O2的混合溶液中刻蚀,以制得具有阵列结构的基底; 所述阵列结构为高40μm、边长80μm的微米级方柱,方柱间距为60μm; 步骤3,去除具有阵列结构的基底的表面光刻胶,制得基底材料阵列表面; 步骤4,向基底材料阵列表面喷涂低密度聚乙烯微米颗粒、PTFE纳米颗粒和无水乙醇的混合液,干燥,得到表面喷涂有复合超疏水涂层的基底材料; 步骤5,将步骤4所得基底材料烧结处理后冷却,获得复合超疏水涂层; 所述烧结处理的温度为200℃,保温的时间为30min。
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