匠岭科技(上海)有限公司倪赛健获国家专利权
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龙图腾网获悉匠岭科技(上海)有限公司申请的专利晶圆缺陷检测的方法、系统、装置及其计算机程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117054445B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311016338.1，技术领域涉及：G01N21/956；该发明授权晶圆缺陷检测的方法、系统、装置及其计算机程序产品是由倪赛健设计研发完成，并于2023-08-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆缺陷检测的方法、系统、装置及其计算机程序产品在说明书摘要公布了：本发明公开了晶圆缺陷检测的方法、系统、装置及其计算机程序产品。其中，所述一种检测晶圆缺陷的方法，包括：获取待测晶圆在暗场照明下的暗场图像，利用所述暗场图像进行散焦检测分析。本发明的技术方案中，通过采用暗场图像来进行晶圆表面的缺陷检测，能够检测出一些在常规的明场图像的检测中难易检测的对比度比较小的晶圆表面的缺陷。
本发明授权晶圆缺陷检测的方法、系统、装置及其计算机程序产品在权利要求书中公布了：1.一种检测晶圆缺陷的方法，其特征在于，包括： 以最佳上片角度上片待测晶圆； 分别获取每片待测晶圆在最佳上片角度之下的明场图像和暗场图像； 利用所述暗场图像进行散焦检测分析，所述明场图像用于定位和其他缺陷检测分析； 所述最佳上片角度的获取方法包括： 提供有散焦缺陷的第一产品晶圆； 以定位口在图像采集端口的正下方作为0度上片，将所述第一产品晶圆以不同的上片角度上片，并获取所述第一产品晶圆在每一个上片角度的暗场图像，直至旋转一周； 计算所有第一产品晶圆的暗场图像在散焦缺陷所在位置的梯度图像； 设置所有梯度图像中灰度值最大的图像所对应的上片角度，为最佳上片角度。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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