航天科工武汉磁电有限责任公司陈瑶获国家专利权
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龙图腾网获悉航天科工武汉磁电有限责任公司申请的专利对接面密封结构以及军用方舱获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116005820B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211629766.7，技术领域涉及：E04B1/66；该发明授权对接面密封结构以及军用方舱是由陈瑶;刘琦;丁庚;胡俊设计研发完成，并于2022-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本对接面密封结构以及军用方舱在说明书摘要公布了：本发明公开一种对接面密封结构以及军用方舱，其中所述对接面密封结构包括第一密封座和第二密封座以及密封结构，所述第一密封座和第二密封座相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和第二密封座能够相对活动，所述密封结构形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座，以在所述第一安装座和所述第二安装座产生一定的相对位移时仍能保证所述安装间隙的密封。
本发明授权对接面密封结构以及军用方舱在权利要求书中公布了：1.一种对接面密封结构，其特征在于，包括： 第一密封座和第二密封座，相对设置并限定出安装间隙，所述第一密封座和所述第二密封座能够相对活动；以及， 密封结构，形成有能够形变的密封部，所述密封部设于所述安装间隙内，所述密封部的一端密封连接于所述第一密封座，另一端通过磁吸结构密封连接于所述第二密封座； 所述磁吸结构包括相互吸引的第一磁吸部和第二磁吸部，所述第一磁吸部设于所述第二密封座，所述第二磁吸部设于所述密封部背向所述第一密封座的侧端，用以磁吸挤压所述密封部形变，以适应所述第一密封座和所述第二密封座之间的相对活动； 还包括限位保护结构，所述限位保护结构设于所述密封部与所述第一密封座之间，用于在所述第一密封座和所述第二密封座活动背离时，限制所述第二磁吸部移动； 所述限位保护结构包括： 限位座，自所述第一密封座向所述安装间隙内延伸设置，所述限位座内形成有活动槽，所述活动槽的两侧壁于其口部向内折弯形成限位口； 限位块，活动设于所述活动槽内，并可活动至抵接限位于所述限位口处；以及， 牵引绳，其两端分别连接所述限位块和所述第二磁吸部。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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