上海华力集成电路制造有限公司熊丽娜获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利改善金属层工艺窗口的版图修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115268207B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210876160.7，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权改善金属层工艺窗口的版图修正方法是由熊丽娜设计研发完成，并于2022-07-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本改善金属层工艺窗口的版图修正方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种改善金属层工艺窗口的版图修正方法，提供待修正图形经光学邻近修正后的第一修正后图形，根据第一修正后图形得到其第一曝光轮廓，定义第一曝光轮廓中线宽不满足设计标准的区域为热点图形；将第一图形向远离第三图形的一侧移动部分距离得到第四图形；根据第二至四图形对热点图形对应的原始图形进行光学邻近修正，得到第二修正后图形，根据第二修正后图形得到其第二曝光轮廓，使得第二修正后图形中的线宽符合设计标准，第二图形修正后的曝光后轮廓包裹第四图形修正后的曝光后轮廓。本发明增大金属层热点线宽修正移动空间并提高其工艺窗口，且不会造成包裹面积不够问题。
本发明授权改善金属层工艺窗口的版图修正方法在权利要求书中公布了：1.一种改善金属层工艺窗口的版图修正方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、提供待修正图形经光学邻近修正后的第一修正后图形，根据所述第一修正后图形得到其第一曝光轮廓，定义所述第一曝光轮廓中线宽不满足设计标准的区域为热点图形； 其中，所述热点图形对应的所述待修正图形包括第一至三图形，所述第二图形与所述第三图形间隔设置，所述第一图形设于所述第二图形的下方或上方，且所述第一图形设于所述第二图形的范围内； 步骤二、将所述第一图形向远离所述第三图形的一侧移动部分距离得到第四图形； 步骤三、根据所述第二至四图形对所述热点图形对应的原始图形进行光学邻近修正，以增大所述第二图形的光学邻近修正空间，得到第二修正后图形，根据所述第二修正后图形得到其第二曝光轮廓，使得所述第二修正后图形的线宽符合所述设计标准，所述第二图形修正后的曝光后轮廓包裹所述第四图形修正后的曝光后轮廓。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人上海华力集成电路制造有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区康桥东路298号1幢1060室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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