上海华力集成电路制造有限公司郭浩获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力集成电路制造有限公司申请的专利缺陷的检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115165914B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210766636.1，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权缺陷的检测方法是由郭浩设计研发完成，并于2022-06-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本缺陷的检测方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种缺陷的检测方法，获取晶圆的第一缺陷扫描结果，根据第一缺陷扫描结果得到缺陷处的第一背景轮廓图，并对第一背景轮廓图进行灰度化处理与数字化处理；获取晶圆经后续工艺后的第二缺陷扫描结果，根据第二缺陷扫描结果得到第二背景轮廓图，并对第二背景轮廓图进行灰度化处理与数字化处理，第一、二背景轮廓图灰度化处理与数字化处理的标准相同；通过比较第一、二背景轮廓图，定位出第二背景轮廓图中与第一背景轮廓图相匹配的部分并得到该处的放大图像。本发明增强了缺陷定点检测的精确度，确保对缺陷进行定性分析的准确性，有助于提高产品良率。
本发明授权缺陷的检测方法在权利要求书中公布了：1.一种缺陷的检测方法，其特征在于，至少包括： 步骤一、获取晶圆的第一缺陷扫描结果，根据所述第一缺陷扫描结果得到缺陷处的第一背景轮廓图，并对所述第一背景轮廓图进行灰度化处理与数字化处理； 步骤二、获取晶圆经后续工艺后的第二缺陷扫描结果，根据所述第二缺陷扫描结果得到第二背景轮廓图，并对所述第二背景轮廓图进行灰度化处理与数字化处理，所述第一、二背景轮廓图灰度化处理与数字化处理的标准相同； 步骤三、通过比较所述第一、二背景轮廓图，定位出第二背景轮廓图中与所述第一背景轮廓图相匹配的部分并得到该处的放大图像，所述比较包括：通过对比所述第一、二背景轮廓图的灰阶值初步定位出所述第二背景轮廓图中缺陷的位置，之后通过对比所述第一、二背景轮廓图的像素点进一步定位出所述第二背景轮廓图中缺陷的位置。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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