株式会社尤金科技崔圭鎭获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社尤金科技申请的专利移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114823417B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210058729.9，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备是由崔圭鎭;崔圭镐;黄相赫设计研发完成，并于2022-01-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备在说明书摘要公布了：本发明涉及一种移除薄膜中的杂质的方法以及一种衬底处理设备。移除薄膜中的杂质的方法包括以下步骤：在工艺腔室中提供上面形成有薄膜的衬底；将与薄膜中所包含的杂质发生反应以及结合的第一气体供应到工艺腔室中；在停止第一气体的供应之后，通过对工艺腔室的内部进行减压来排出杂质与第一气体的结合产物；通过将不同于第一气体的第二气体供应到工艺腔室中来将薄膜固化；以及停止第二气体的供应且将剩余的第二气体从工艺腔室的内部排出。本发明有效地移除薄膜中所包含的杂质。
本发明授权移除薄膜中的杂质的方法以及衬底处理设备在权利要求书中公布了：1.一种移除薄膜中的杂质的方法，所述方法包括以下步骤： 在工艺腔室中提供上面形成有所述薄膜的衬底； 将与所述薄膜中所包含的所述杂质发生反应以及结合的第一气体供应到所述工艺腔室中； 在停止所述第一气体的供应之后，通过对所述工艺腔室的内部进行减压来排出所述杂质与所述第一气体的结合产物； 通过将不同于所述第一气体的第二气体供应到所述工艺腔室中来将所述薄膜固化；以及 停止所述第二气体的供应且将剩余的所述第二气体从所述工艺腔室的所述内部排出， 其中供应所述第一气体的步骤是在所述工艺腔室之内在0.1托到20托的第一压力下实行，且供应所述第一气体的步骤被实行达第一时间段，且 排出所述结合产物的步骤是通过对所述工艺腔室的所述内部进行减压而在低于所述第一压力的0.1毫托到20毫托的第二压力下实行，且排出所述结合产物的步骤被实行达比所述第一时间段短的第二时间段。
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