上海华力微电子有限公司顾经纶获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力微电子有限公司申请的专利一种全局工艺角模型的建模方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114117987B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111436051.5,技术领域涉及:G06F30/39;该发明授权一种全局工艺角模型的建模方法是由顾经纶;陈金明设计研发完成,并于2021-11-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种全局工艺角模型的建模方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种全局工艺角模型的建模方法,包括如下步骤:步骤S1,根据设计需求进行总工艺角建模,得到多个总工艺角模型参数及其值;步骤S2,设计一种和尺寸相关的全局工艺角模型系数,将该全局工艺角模型系数与每一个总工艺角模型参数值相乘,并将相乘后的参数作为全局工艺角模型参数值;步骤S3,调整全局工艺角模型系数中的参数来拟合全局工艺角模型使得全局工艺角模型符合目标值。
本发明授权一种全局工艺角模型的建模方法在权利要求书中公布了:1.一种全局工艺角模型的建模方法,包括如下步骤: 步骤S1,根据设计需求进行总工艺角建模,得到多个总工艺角模型参数; 步骤S2,设计一种和尺寸相关的全局工艺角模型系数,以及设计一种和尺寸相关的全局工艺角模型系数表达式,将该全局工艺角模型系数与每一个总工艺角模型参数值相乘,并将相乘后的参数作为全局工艺角模型参数值; 步骤S3,调整全局工艺角模型系数中的参数来拟合全局工艺角模型使得全局工艺角模型符合目标值; 其中,所述和尺寸相关的全局工艺角模型系数表达式如下: 其中,global为大尺寸参数,lglobal为短沟道参数,wglobal为窄沟道参数,pglobal为小尺寸参数,lef为有效沟道长度,wef为有效沟道宽度。
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