日产化学株式会社广原知忠获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利包含已封端的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116249729B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180067677.5，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权包含已封端的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物是由广原知忠;清水祥;田村护设计研发完成，并于2021-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本包含已封端的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、以及使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。本发明为一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含末端被化合物A封闭的聚合物及有机溶剂，所述聚合物为由下述式11式11中，Y1表示单键、氧原子、硫原子、可以被卤素原子或碳原子数6～40的芳基取代的碳原子数1～10的亚烷基或者磺酰基，T1及T2表示碳原子数1～10的烷基，n1及n2各自独立地表示0～4的整数表示的化合物B衍生的聚合物。
本发明授权包含已封端的反应产物的抗蚀剂下层膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其为包含末端被化合物A封闭的聚合物及有机溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物为包含由下述式11表示的化合物B、和能与所述化合物B反应的化合物C衍生的重复单元结构的聚合物， 式11中， Y1表示单键、氧原子、硫原子、可以被卤素原子或碳原子数6～40的芳基取代的碳原子数1～10的亚烷基或者磺酰基， T1及T2表示碳原子数1～10的烷基， n1及n2各自独立地表示0～4的整数， 所述化合物C为含有2个环氧基的化合物， 所述化合物A选自下述化合物、和下述化合物的羧基替换为羟基、氨基或硫醇基而成的化合物，
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人日产化学株式会社，其通讯地址为：日本东京都；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号