日产化学株式会社清水祥获国家专利权
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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116194506B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180060635.9，技术领域涉及：G03F7/11；该发明授权EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物是由清水祥;水落龙太;田村护设计研发完成，并于2021-07-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物在说明书摘要公布了：本发明提供用于形成能够形成所希望的抗蚀剂图案的抗蚀剂下层膜的组合物、和使用了该抗蚀剂下层膜形成用组合物的抗蚀剂图案制造方法、半导体装置的制造方法。一种EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：下述式1：在式1中，Y1表示至少1个氢原子被氟原子取代了的碳原子数1～10的亚烷基，T1和T2各自独立地表示羟基或羧基，R1和R2各自独立地表示可以被氟原子取代的碳原子数1～10的烷基，n1和n2各自独立地表示0～4的整数所示的化合物与二环氧化合物的反应生成物；以及有机溶剂。
本发明授权EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种EUV抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含： 下述式1所示的化合物与二环氧化合物的反应生成物；以及 有机溶剂， 在式1中， Y1表示至少1个氢原子被氟原子取代了的碳原子数1～10的亚烷基， T1和T2各自独立地表示羟基或羧基， R1和R2各自独立地表示可以被氟原子取代的碳原子数1～10的烷基， n1和n2各自独立地表示0～4的整数。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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