南亚科技股份有限公司蔡奉儒获国家专利权
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龙图腾网获悉南亚科技股份有限公司申请的专利半导体结构制造方法与半导体结构制造系统获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115081504B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110607658.9,技术领域涉及:G06F18/214;该发明授权半导体结构制造方法与半导体结构制造系统是由蔡奉儒;董学儒设计研发完成,并于2021-06-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体结构制造方法与半导体结构制造系统在说明书摘要公布了:本发明公开了一种半导体结构制造方法与半导体结构制造系统,半导体结构制造方法包含以下流程。在半导体机台输入多个产品设计参数以及多个工艺控制参数,以形成测试结构。通过膜厚测量单元测量测试结构的实验膜厚信息。将产品设计参数、工艺控制参数与实验膜厚信息传送至服务器的大数据数据库。通过服务器的数据探勘单元根据大数据数据库并基于产品设计参数输出多个改良工艺控制参数。半导体机台根据产品设计参数与改良工艺控制参数形成半导体结构。如此,能够智能地实现工艺流程的自动化。
本发明授权半导体结构制造方法与半导体结构制造系统在权利要求书中公布了:1.一种半导体结构制造方法,其特征在于,包括: 在半导体机台输入多个产品设计参数以及多个工艺控制参数,以形成测试结构; 通过膜厚测量单元测量所述测试结构的实验膜厚信息; 将所述多个产品设计参数、所述多个工艺控制参数与所述实验膜厚信息传送至服务器的大数据数据库; 通过所述服务器的数据探勘单元根据所述大数据数据库并基于所述多个产品设计参数输出多个改良工艺控制参数; 所述半导体机台根据所述多个产品设计参数与所述多个改良工艺控制参数形成半导体结构, 其中所述多个产品设计参数包括产品类型、设计膜厚与生产片数,所述半导体机台具有处理区域,所述处理区域设置以形成所述产品类型的所述半导体结构,所述半导体结构的所述生产片数对应所述处理区域中局部的子处理区域, 其中所述处理区域为所述半导体机台的炉管,所述子处理区域为所述半导体机台多个局部区域其中之一。
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