株式会社ORC制作所伊达宽一获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社ORC制作所申请的专利曝光装置、曝光方法以及基板的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114077165B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110265072.9，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光装置、曝光方法以及基板的制造方法是由伊达宽一设计研发完成，并于2021-03-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光装置、曝光方法以及基板的制造方法在说明书摘要公布了：本发明提供曝光装置和曝光方法。在无掩模曝光装置中，即使在使用了低感光度特性的通用光致抗蚀剂的情况下，也能够适当地形成图案。在曝光装置100中，在3次扫描中间歇地执行照度I1、单次曝光时间t、单次曝光次数4次、图案光相同的未完成多重曝光动作ME1、ME2、ME3，并且，对于同一部位，是以相同的间隔进行的。
本发明授权曝光装置、曝光方法以及基板的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种曝光装置，其特征在于， 该曝光装置具有： 光调制元件阵列，其是将多个光调制元件二维排列而得到的； 扫描部，其使所述光调制元件阵列的曝光区相对于在表面形成有光致抗蚀剂层的曝光对象物沿着主扫描方向以恒定速度相对移动；以及 曝光控制部，其对所述光调制元件阵列和所述扫描部进行控制，以按照各光调制元件的微小曝光区相互重叠的方式以规定的曝光间隔对所述曝光对象物进行多重曝光， 所述曝光控制部隔开规定的时间间隔而多次进行未完成多重曝光，该未完成多重曝光是指在1次扫描中累积曝光量不超过所述光致抗蚀剂层的光致抗蚀剂的曝光感光度。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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