ASML荷兰有限公司P·坦恩伯格获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于控制制造过程的方法和相关联的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115244467B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180018384.8，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权用于控制制造过程的方法和相关联的设备是由P·坦恩伯格;S·E·斯蒂恩;P·G·J·斯莫伦伯格;K·艾尔巴特设计研发完成，并于2021-02-03向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于控制制造过程的方法和相关联的设备在说明书摘要公布了：公开了一种用于控制制造半导体器件的过程的方法，所述方法包括：获得与第一光刻设备相关联的第一控制栅格，第一光刻设备被用于对第一衬底进行图案化的第一图案化过程；获得与第二光刻设备相关联的第二控制栅格，第二光刻设备被用于对第二衬底进行图案化的第二图案化过程；以及基于第一控制栅格和第二控制栅格，确定用于结合步骤的共同的控制栅格限定，结合步骤用于结合第一衬底和第二衬底以获得结合衬底；获得结合衬底量测数据，结合衬底量测数据包括与在结合衬底上执行的量测有关的数据；以及基于结合衬底量测数据来确定对结合步骤的执行的校正，确定校正包括确定对结合步骤以及对第一图案化过程和或第二图案化过程的共同优化校正。
本发明授权用于控制制造过程的方法和相关联的设备在权利要求书中公布了：1.一种用于控制制造半导体器件的过程的方法，所述方法包括： 获得与第一光刻设备相关联的第一控制栅格，所述第一光刻设备被用于对第一衬底进行图案化的第一图案化过程； 获得与第二光刻设备相关联的第二控制栅格，所述第二光刻设备被用于对第二衬底进行图案化的第二图案化过程； 基于所述第一控制栅格和第二控制栅格，确定用于结合步骤的共同的控制栅格限定，所述结合步骤用于结合所述第一衬底和第二衬底以获得结合衬底； 获得结合衬底量测数据，所述结合衬底量测数据包括与在所述结合衬底上执行的量测有关的数据；以及 基于所述结合衬底量测数据来确定对所述结合步骤在后续的衬底上的执行的校正，其中确定校正包括：确定对所述结合步骤以及对所述第一图案化过程和或第二图案化过程中的一个或二者的共同优化校正。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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