浙江大学伍广朋获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江大学申请的专利一种手性导向的嵌段共聚物自组装光刻的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114551225B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011342726.5，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权一种手性导向的嵌段共聚物自组装光刻的方法是由伍广朋;陆新宇设计研发完成，并于2020-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种手性导向的嵌段共聚物自组装光刻的方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种手性导向的嵌段共聚物自组装光刻的方法，所述方法包括：①在基片表面接枝手性均聚物层；②通过光刻技术将手性均聚物层刻蚀为周期性结构；③在手性均聚物的周期性结构的间隙回填接枝中性层形成手性导向基底；④将手性嵌段共聚物旋涂于手性导向基底上进行退火得到手性导向自组装结构；其中，手性嵌段共聚物至少包括一种手性嵌段，手性均聚物与手性嵌段共聚物中的手性嵌段相同或互为立体异构体，所述中性层为对手性嵌段共聚物的两相相互作用相近的聚合物。该方法可以显著提高嵌段共聚物导向自组装过程中的导向作用力，并有效降低最终导向结构的缺陷率和线边缘粗糙度。
本发明授权一种手性导向的嵌段共聚物自组装光刻的方法在权利要求书中公布了：1.一种手性导向的嵌段共聚物自组装光刻的方法，其特征在于，所述方法包括： ①在基片表面接枝手性均聚物层； ②通过光刻技术将手性均聚物层刻蚀为周期性结构； ③在手性均聚物的周期性结构的间隙回填接枝中性层形成手性导向基底； ④将手性嵌段共聚物旋涂于手性导向基底上进行退火得到手性导向自组装结构； 其中，手性嵌段共聚物至少包括一种手性嵌段，手性均聚物与手性嵌段共聚物中的手性嵌段相同或互为立体异构体， 所述中性层为手性嵌段共聚物中两相单体的无规共聚物。
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