京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司龙跃获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及其制备方法、显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114497118B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-25发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011147168.7，技术领域涉及：H10K59/131；该发明授权显示基板及其制备方法、显示装置是由龙跃;邱远游;蔡建畅;吴超;肖星亮设计研发完成，并于2020-10-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及其制备方法、显示装置在说明书摘要公布了：一种显示基板及其制备方法、显示装置。该制备方法包括：提供衬底基板，衬底基板上形成有多个像素驱动电路，多个像素驱动电路包括第一像素驱动电路和第二像素驱动电路；在衬底基板上形成第一绝缘层；在第一绝缘层上形成第一走线层，第一走线层包括第一连接走线，第一连接走线形成为通过第一绝缘层与第一像素驱动电路电连接；在第一走线层上形成并构图第二绝缘层；在第二绝缘层上形成第二走线层，第二走线层包括第二连接走线，第二连接走线形成为通过第一绝缘层和第二绝缘层与第二像素驱动电路电连接；以及在第二走线层上形成并构图第三绝缘层；第三绝缘层以及第二绝缘层采用同一掩模版进行构图工艺。
本发明授权显示基板及其制备方法、显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板的制备方法，包括： 提供衬底基板，其中，所述衬底基板上形成有多个像素驱动电路，所述多个像素驱动电路包括第一像素驱动电路和第二像素驱动电路； 在所述衬底基板上形成第一绝缘层，其中，所述第一绝缘层形成为分别部分露出所述多个像素驱动电路； 在所述第一绝缘层上形成第一走线层，其中，所述第一走线层包括第一连接走线，所述第一连接走线形成为通过所述第一绝缘层与所述第一像素驱动电路电连接； 在所述第一走线层上形成并构图第二绝缘层； 在所述第二绝缘层上形成第二走线层，其中，所述第二走线层包括第二连接走线，所述第二连接走线形成为通过所述第一绝缘层和所述第二绝缘层与所述第二像素驱动电路电连接；以及 在所述第二走线层上形成并构图第三绝缘层； 其中，所述第三绝缘层以及所述第二绝缘层采用同一掩模版进行构图工艺。
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