东京毅力科创株式会社松田梨沙子获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基板处理方法和基板处理系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113394130B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110241710.3，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基板处理方法和基板处理系统是由松田梨沙子;木下忍;大家学;庄司庆太设计研发完成，并于2021-03-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理方法和基板处理系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，高精度地监视为了进行基板处理而供给的气体的总流量。作为使用被供给至腔室的气体来处理基板的方法，该方法包括以下工序：工序a，在测定向所述腔室供给的气体的压力来控制该气体的流量的流量控制器中，设定作为控制对象的气体的压力的阈值；工序b，向所述腔室的内部供给气体；工序c，测定所述流量控制器中的气体的压力；工序d，停止向所述腔室的内部供给气体；工序e，计算在所述工序c中测定出的气体的压力为所述阈值以上的时间；以及工序f，基于在所述工序c中测定出的气体的压力和在所述工序e中计算出的时间来计算向所述腔室供给的气体的总流量。
本发明授权基板处理方法和基板处理系统在权利要求书中公布了：1.一种基板处理方法，使用被供给至腔室的气体来处理基板，所述基板处理方法包括以下工序： 工序a，在测定向所述腔室供给的气体的压力来控制该气体的流量的流量控制器中设定作为控制对象的气体的压力的阈值； 工序b，向所述腔室的内部供给气体； 工序c，测定所述流量控制器中的气体的压力； 工序d，停止向所述腔室的内部供给气体； 工序e，计算在所述工序c中测定出的气体的压力为所述阈值以上的时间；以及 工序f，基于在所述工序c中测定出的气体的压力和在所述工序e中计算出的时间来计算向所述腔室供给的气体的总流量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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