ASML荷兰有限公司A·胡包克斯获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利确定光刻匹配性能获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115104067B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180014173.7，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权确定光刻匹配性能是由A·胡包克斯;帕特里克·华纳;斯科特·安德森·米德尔布鲁克斯;T·P·科利戈恩;李忠勋;G·齐萝扬尼斯;S·M·沙克瑞设计研发完成，并于2021-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本确定光刻匹配性能在说明书摘要公布了：描述了一种确定用于半导体制造的工具之间的匹配性能的方法以及相关联的工具。该方法包括获得与多个工具相关的多个数据集，以及在减小的空间中的所述数据集的表示，该减小的空间具有减小的维度。基于匹配减小的空间中的所述减小的数据集，确定匹配度量和或匹配校正。
本发明授权确定光刻匹配性能在权利要求书中公布了：1.一种确定用于半导体制造的工具之间的匹配性能的方法，所述方法包括： 获得与多个工具相关的多个数据集； 获得在减小的空间中的所述数据集的表示，以获得减小的数据集，所述减小的空间具有减小的维度，其中所述获得包括以下中的一个： 对所述数据集执行一种或多种非线性降维技术；或者 使用编码器-解码器网络模型将所述数据集编码成所述减小的空间表示，并且从所述减小的空间表示解码回所述数据集；并且 基于表征在所述减小的空间中的所述减小的数据集，确定匹配度量和或匹配校正。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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