日月光半导体制造股份有限公司黄文宏获国家专利权
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龙图腾网获悉日月光半导体制造股份有限公司申请的专利半导体设备封装和其制造方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113451229B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202011229549.X,技术领域涉及:H01L23/31;该发明授权半导体设备封装和其制造方法是由黄文宏设计研发完成,并于2020-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体设备封装和其制造方法在说明书摘要公布了:本公开提供了一种半导体设备封装。所述半导体设备封装包含天线层、第一电路层和第二电路层。所述天线层具有第一热膨胀系数CTE。所述第一电路层安置在所述天线层之上。所述第一电路层具有第二CTE。所述第二电路层安置在所述天线层之上。所述第二电路层具有第三CTE。所述第一CTE与所述第二CTE之间的差值小于所述第一CTE与所述第三CTE之间的差值。
本发明授权半导体设备封装和其制造方法在权利要求书中公布了:1.一种半导体设备封装,其包括: 天线层,所述天线层具有第一CTE; 第一电路层,所述第一电路层安置在所述天线层之上,所述第一电路层具有第二CTE;以及 第二电路层,所述第二电路层安置在所述天线层之上,所述第二电路层具有第三CTE, 其中所述第一CTE与所述第二CTE之间的差值小于所述第一CTE与所述第三CTE之间的差值, 其中所述第一电路层安置成邻近所述第二电路层,并且所述第一电路层和所述第二电路层相对于所述天线层安置在同一高度处。
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