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龙图腾网获悉浙江芯晖装备技术有限公司申请的专利一种清洗装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110948384B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-07-29发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201911410394.7，技术领域涉及：B24B37/34；该发明授权一种清洗装置是由杨兆明;颜凯;中原司设计研发完成，并于2019-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种清洗装置在说明书摘要公布了：本发明涉及硅片研磨清洗技术领域，公开了一种清洗装置，包括机架两个第一清洗机构和第二清洗机构，两个第一清洗机构间隔且滑动地设置于机架上，第一清洗机构相对于机架能够沿水平第一方向移动，第一清洗机构包括第一驱动组件和第一清洗头，第一驱动组件能够驱动第一清洗头清洗硅片；第二清洗机构滑动地设置于机架上，且位于两个第一清洗机构之间，第二清洗机构能够相对于机架沿水平第一方向移动，第二清洗机构包括第二驱动组件和第二清洗头，第二清洗机构能够驱动第二清洗头清洗吸盘。该清洗装置可以清洗硅片以保证硅片的清洁度，对吸盘进行清洗，可以保证吸盘的清洁度，可以有效避免吸附盘上粘附的粉尘影响下一硅片研磨精度。

本发明授权一种清洗装置在权利要求书中公布了：1.一种清洗装置，其特征在于，包括： 机架， 两个第一清洗机构1，间隔且滑动地设置于所述机架上，所述第一清洗机构1相对于所述机架能够沿水平第一方向移动，所述第一清洗机构1包括第一驱动组件11和第一清洗头12，所述第一驱动组件11能够驱动所述第一清洗头12清洗硅片； 第二清洗机构2，其滑动地设置于所述机架上，且位于两个所述第一清洗机构1之间，能够通过左右移动来清洗两个吸盘，所述第二清洗机构2能够相对于所述机架沿水平第一方向移动，所述第二清洗机构2包括第二驱动组件21和第二清洗头22，所述第二清洗机构2能够驱动所述第二清洗头22清洗吸盘； 左侧的吸盘上的硅片在研磨的同时，与右侧的吸盘相对应的所述第一清洗机构1对右侧吸盘上的硅片进行清洗，清洗完成后，与右侧的吸盘相对应的所述第一清洗机构1移走，并通过机械手将硅片移走，然后所述第二清洗机构2移动到右侧的吸盘上对吸盘进行清洗，在左侧的硅片研磨完成需要清洗的同时，右侧的硅片也开始研磨。

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