浙江创芯集成电路有限公司余先勇获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江创芯集成电路有限公司申请的专利半导体设备的清洁组件及半导体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223171481U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422274572.0，技术领域涉及：B08B3/08；该实用新型半导体设备的清洁组件及半导体设备是由余先勇设计研发完成，并于2024-09-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本半导体设备的清洁组件及半导体设备在说明书摘要公布了：本公开实施例提供一种半导体设备的清洁组件及半导体设备，其中，半导体设备的清洁组件用于去除承载台上的异物，所述清洁组件包括：设置于所述承载台上方的清洁件；贯穿设置于所述清洁件内的第一通道，所述第一通道供溶解所述异物的溶液通过；其中，所述清洁件靠近所述承载台一侧具有位于所述第一通道下方的凹槽；当所述清洁件与所述承载台接触时，所述凹槽和所述承载台之间形成容置所述溶液和所述异物的容置腔。采用上述技术方案，能够提升承载台的清洁度。
本实用新型半导体设备的清洁组件及半导体设备在权利要求书中公布了：1.一种半导体设备的清洁组件，其特征在于，用于去除承载台上的异物，所述清洁组件包括： 位于所述承载台上方，且与所述承载台相对设置的清洁件； 贯穿设置于所述清洁件内的第一通道，所述第一通道供溶解所述异物的溶液通过； 其中，所述清洁件靠近所述承载台一侧具有位于所述第一通道下方的凹槽；当所述清洁件与所述承载台接触时，所述凹槽和所述承载台之间形成容置所述溶液和所述异物的容置腔。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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