三达奥克化学股份有限公司卢建明获国家专利权
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龙图腾网获悉三达奥克化学股份有限公司申请的专利一种半导体芯片清洗剂生产除杂设备获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223170538U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202421917513.4,技术领域涉及:B01D36/04;该实用新型一种半导体芯片清洗剂生产除杂设备是由卢建明;李文瀚;王成昊;孟令健;杨同勇;黄文飞设计研发完成,并于2024-08-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体芯片清洗剂生产除杂设备在说明书摘要公布了:本实用新型涉及清洗剂生产的技术领域,特别是涉及一种半导体芯片清洗剂生产除杂设备,其不仅对清洗剂进行了两次过滤,提高了过滤除杂效果,而且加速了清洗剂的过滤除杂速度,提高了工作效率;包括收集机构;还包括上料机构、过滤机构、挤压机构和离心机构,上料机构安装在收集机构上并方便清洗剂上料,过滤机构安装上料机构上并对清洗剂进行过滤,挤压机构安装在上料机构上并加速清洗剂通过过滤机构,离心机构安装在过滤机构上并对清洗剂进行二次过滤。
本实用新型一种半导体芯片清洗剂生产除杂设备在权利要求书中公布了:1.一种半导体芯片清洗剂生产除杂设备,包括收集机构01;其特征在于,还包括上料机构02、过滤机构03、挤压机构04和离心机构05,上料机构02安装在收集机构01上并方便清洗剂上料,过滤机构03安装上料机构02上并对清洗剂进行过滤,挤压机构04安装在上料机构02上并加速清洗剂通过过滤机构03,离心机构05安装在过滤机构03上并对清洗剂进行二次过滤; 收集机构01包括收集筒11、下滑板12、排料管13和阀门14,收集筒11的底端与地面连接,收集筒11的内部开有空腔,并且收集筒11上开有抽污口,下滑板12安装在收集筒11的空腔内部底端,排料管13的顶端与收集筒11的底端内部连通,阀门14安装在排料管13上; 上料机构02包括储料筒21、上料管22、密封盖23、铰链24、排污盖25和把手26,储料筒21的底端与收集筒11的顶端连接,储料筒21的内部开有内腔,储料筒21的内腔与收集筒11的空腔内部连通,上料管22的底端与储料筒21的顶端内部连通,密封盖23安装在上料管22上,储料筒21上开有排污口,铰链24安装在储料筒21的排污口处,排污盖25安装在铰链24上,把手26安装在排污盖25上; 过滤机构03包括过滤板31、漏斗一32、支撑杆33和多组套筒34,过滤板31安装在收集筒11的空腔和储料筒21的内腔的连接处,漏斗一32的顶端与过滤板31的底端连接,多组支撑杆33均安装在收集筒11的空腔内,套筒34安装在多组支撑杆33上并与漏斗一32的底端内部连通; 挤压机构04包括电动机一41、减速机一42、传动轴一43和螺旋叶片44,电动机一41的底端与储料筒21的顶端连接,减速机一42的底端与储料筒21的顶端连接,传动轴一43转动安装在储料筒21的内腔内并与减速机一42纵向连接,螺旋叶片44安装在传动轴一43上。
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