武汉云岭光电股份有限公司韩宇获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉云岭光电股份有限公司申请的专利一种水平腔垂直发射激光器获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223181573U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202421831386.6，技术领域涉及：H01S5/185；该实用新型一种水平腔垂直发射激光器是由韩宇;孔德谋设计研发完成，并于2024-07-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种水平腔垂直发射激光器在说明书摘要公布了：本实用新型涉及激光器技术领域，提供了一种水平腔垂直发射激光器，包括外延结构，所述外延结构包括脊波导区，于所述外延结构的顶部向下凹陷形成光反射区，所述光反射区位于所述脊波导区的一侧，所述脊波导区具有脊波导以及光发射端，所述光反射区具有可将所述光发射端发出的激光反射成垂直激光的反射面，所述光发射端和所述反射面均位于所述凹陷中。本实用新型在外延结构上设反射面，可以将光发射端发出的激光反射成垂直激光，较之传统的片上和片外方案来说，具有成本低、垂直出光效率高等优势。
本实用新型一种水平腔垂直发射激光器在权利要求书中公布了：1.一种水平腔垂直发射激光器，包括外延结构，其特征在于，所述外延结构包括脊波导区，于所述外延结构的顶部向下凹陷形成光反射区，所述光反射区位于所述脊波导区的一侧，所述脊波导区具有脊波导以及光发射端，所述光反射区具有可将所述光发射端发出的激光反射成垂直激光的反射面，所述光发射端和所述反射面均位于所述凹陷中，所述外延结构包括有源层，所述激光从所述有源层处发出，所述外延结构还包括于所述有源层上依次叠层设置的磷化铟过渡层、光栅层、光栅掩埋层、腐蚀停止层、P型磷化铟波导层及铟镓砷接触层，所述有源层设于衬底上，在凹陷处形成台阶结构，所述台阶结构位于所述反射面的底端处，所述台阶结构的最低一层台阶与所述光发射端呈90度设置，高一层的台阶不阻挡水平激光。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉云岭光电股份有限公司，其通讯地址为：430223 湖北省武汉市东湖新技术开发区长城园路2号武汉澳新科技1号厂房102室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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