中国科学院合肥物质科学研究院杨俊峰获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院合肥物质科学研究院申请的专利一种FeCrAl基梯度纳米多层结构高熵合金涂层及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117187758B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311154925.7，技术领域涉及：C23C14/32；该发明授权一种FeCrAl基梯度纳米多层结构高熵合金涂层及其制备方法是由杨俊峰;左黎;张临超;许依春;谢卓明;王先平;吴学邦;刘长松设计研发完成，并于2023-09-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种FeCrAl基梯度纳米多层结构高熵合金涂层及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种FeCrAl基梯度纳米多层结构高熵合金涂层及其制备方法，是利用多弧离子镀与磁控溅射复合的方法在衬底上依次沉积Cr薄膜与AlCr薄膜后，再通过交替沉积单层FeCrAl薄膜和单层FeCrAlTiSiY薄膜形成FeCrAlFeCrAlTiSiY复合膜的多层结构。本发明所得涂层具有高膜基结合力、高硬度、高耐磨性、高热稳定性，满足高熵合金涂层工业应用的要求。
本发明授权一种FeCrAl基梯度纳米多层结构高熵合金涂层及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种FeCrAl基梯度纳米多层结构高熵合金涂层，其特征在于：所述涂层是在衬底上依次沉积Cr薄膜与AlCr薄膜后，再通过交替沉积单层FeCrAl薄膜和单层FeCrAlTiSiY薄膜形成FeCrAlFeCrAlTiSiY复合膜的多层结构；其中，Cr薄膜与AlCr薄膜采用多弧离子镀方法沉积，单层FeCrAl薄膜和单层FeCrAlTiSiY薄膜采用磁控溅射方法沉积。
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