北京航空航天大学邱璐获国家专利权
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龙图腾网获悉北京航空航天大学申请的专利一种适配于激光高斯轮廓的喷墨打印厚度及其分布的调控方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116968460B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310851275.5，技术领域涉及：B41M5/00；该发明授权一种适配于激光高斯轮廓的喷墨打印厚度及其分布的调控方法是由邱璐;陈翔宇;朱剑琴;陶智设计研发完成，并于2023-07-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种适配于激光高斯轮廓的喷墨打印厚度及其分布的调控方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种适配于激光高斯轮廓的喷墨打印厚度及其分布的调控方法，属于喷墨打印技术领域。该方法对于任意宽度的沉积线路，通过墨水配比，喷墨打印图案、横纵点间距和打印温度的匹配，实现ITO线路厚度及厚度分布的调控。改变物距，使光斑直径与沉积线路宽度相近，在适当的激光功率下对线路进行单次烧结，可获得表面完整，电学性能优的ITO线路。本发明借助喷墨打印调控沉积线路的厚度及其分布，制备了与激光高斯轮廓匹配的中间厚，两边薄的沉积线路，且通过改变打印参数可实现沉积线路最大厚度与沉积线宽的调控，实现了在不改变激光高斯轮廓下的高均一性沉积线路激光烧结。
本发明授权一种适配于激光高斯轮廓的喷墨打印厚度及其分布的调控方法在权利要求书中公布了：1.一种适配于激光高斯轮廓的喷墨打印厚度及其分布的调控方法，其特征在于，该方法包括： 步骤一：ITO纳米微粒墨水的制备； 步骤二：可控厚度及厚度分布的ITO线路打印： 1在波形条件为正压60-70V，负压70-80V，基准电压0-5V，正压上升时间5-8ms，正压持续时间30-40ms，正压下降时间10-20ms，负压持续时间40-50ms，负压上升时间5-8ms下，获得稳定的液滴； 2控制陶瓷基底温度； 3绘制打印线路：通过改变相邻单元线路的占空比实现整体线路的厚度调控； 4设置横纵打印点间距与打印速度，并进行单次喷墨打印； 步骤三：ITO线路激光烧结： 1调整连续波的Nd-YAG激光器光斑直径为0.5-0.8mm； 2控制激光光斑中心与沉积线路最厚处重合，二者间距≤0.05mm； 3调整激光功率为20-25W，扫描速度5-10mms，对沉积线路进行单线路、单次激光烧结。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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