北京理工大学周天丰获国家专利权
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龙图腾网获悉北京理工大学申请的专利一种微纳光学阵列结构加工方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116165732B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310151279.2，技术领域涉及：G02B5/00；该发明授权一种微纳光学阵列结构加工方法是由周天丰;王子凡;于谦;姚小强;刘朋;赵斌;颜培;梁志强;刘志兵;王西彬设计研发完成，并于2023-02-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种微纳光学阵列结构加工方法在说明书摘要公布了：本发明涉及微纳光学领域，公开一种微纳光学阵列结构加工方法，包括以下步骤：步骤一，在疏水平板表面加工多个开孔；步骤二，将疏水平板置于光刻胶的上方，并与光刻胶相接触，利用开孔的毛细现象使光刻胶表面对应于各个开孔的位置均形成一个球面凸起；步骤三，对光刻胶进行固化；步骤四，固化完成后，移除疏水平板；步骤五，利用光刻胶进行离子束刻蚀处理。与传统的超精密切削加工方式相比，本发明提供的微纳光学阵列结构加工方法成本更低，且加工用时更短。
本发明授权一种微纳光学阵列结构加工方法在权利要求书中公布了：1.一种微纳光学阵列结构加工方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤一，在疏水平板表面加工多个开孔； 步骤二，将所述疏水平板置于光刻胶的上方，并与所述光刻胶相接触，利用所述开孔的毛细现象使所述光刻胶表面对应于各个所述开孔的位置均形成一个球面凸起； 步骤三，对所述光刻胶进行固化； 步骤四，固化完成后，移除所述疏水平板； 步骤五，利用所述光刻胶进行离子束刻蚀处理。
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