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龙图腾网获悉佳能特机株式会社申请的专利溅射装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116288194B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211560533.6，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权溅射装置是由松本行生;内田敏治;菅原洋纪;佐野爱弓设计研发完成，并于2022-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本溅射装置在说明书摘要公布了：本发明提供能够实现在成膜面上具有凹凸的基板的膜厚的均匀化的溅射装置。所述溅射装置具备：移动机构，其移动基板；靶材，其使溅射粒子朝向所述基板飞散；磁铁，其以使来自所述靶材的溅射粒子的主飞散方向成为从所述基板的法线方向倾斜的斜入射方向的方式配置，在所述靶材的表面形成磁场；切换机构，其根据所述移动机构进行的所述基板的移动的方向的变更，以将所述主飞散方向从第一斜入射方向变更为与所述第一斜入射方向不同的第二斜入射方向的方式切换所述磁铁的朝向。

本发明授权溅射装置在权利要求书中公布了：1.一种溅射装置，其特征在于，具备： 靶材，其使溅射粒子朝向基板飞散； 磁铁，其以使来自所述靶材的溅射粒子的主飞散方向成为从所述基板的法线方向向与该法线方向正交的规定方向倾斜角度θ的斜入射方向的方式配置，在所述靶材的表面形成磁场； 移动机构，其包括沿着所述规定方向延伸设置的导轨、被该导轨引导而能够沿着所述规定方向移动的滑块、以及搭载于该滑块并支承所述靶材的一对支承台，使所述靶材及所述磁铁相对于所述基板沿着所述规定方向在去路和回路上往复地移动； 切换机构，其根据所述移动机构进行的所述靶材及所述磁铁的移动的方向从所述去路中的所述移动的方向即去路方向向所述回路中的所述移动的方向即回路方向变更，以将所述主飞散方向从所述去路时的第一斜入射方向变更为与所述第一斜入射方向相对于所述法线方向相反的方向即所述回路时的第二斜入射方向的方式切换所述磁铁相对于所述法线方向的朝向；以及 遮挡机构，所述遮挡机构在成膜时限制溅射粒子相对于所述基板的飞散范围， 所述遮挡机构具备可动遮挡构件和以包围所述靶材的方式配置的固定遮挡构件， 所述固定遮挡构件在顶部形成有开口部，所述可动遮挡构件覆盖所述开口部的一部分而形成飞散允许范围， 所述飞散允许范围是包括所述开口部与所述第一斜入射方向或所述第二斜入射方向交叉的部位在内的范围，是相对于所述磁铁的中央基准线在所述第一斜入射方向或所述第二斜入射方向上位于前侧的范围窄而位于后侧的范围宽的范围， 所述靶材通过在所述一对支承台中的第一支承台上设置的第一马达的驱动力而旋转， 所述切换机构包括第二马达和旋转轴，所述第二马达内置于所述一对支承台中的第二支承台中，使所述旋转轴旋转， 所述旋转轴被所述一对支承台支承为旋转自如，所述磁铁与所述旋转轴连结。

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