华南理工大学辛学刚获国家专利权
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龙图腾网获悉华南理工大学申请的专利一种偏中心的圆锥形头部梯度线圈及其设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115718275B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211508085.5，技术领域涉及：G01R33/385；该发明授权一种偏中心的圆锥形头部梯度线圈及其设计方法是由辛学刚;曾清淮设计研发完成，并于2022-11-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种偏中心的圆锥形头部梯度线圈及其设计方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种偏中心的圆锥形头部梯度线圈及其设计方法，包括：设置圆锥形的线圈结构与尺寸，将圆锥形线圈结构的载流表面离散为由三角形组成的网格，计算每个三角形的节点的电流基函数；将成像区域向线圈入口端移动设定的距离，选取成像区域的磁场采样点，计算磁场采样点处的目标磁场值；将磁场采样点处Z方向的磁场分量用节点流函数值和电流基函数表示；结合磁场采样点处的目标磁场值和Z方向的磁场分量，以线圈功耗最小化为优化目标，成像区域磁场线性度为约束条件构建优化问题；求解优化问题，得到线圈的流函数分布；利用流函数方法进行导线离散，得到线圈的绕线分布。本发明具有更高的电流效率、更大的开放性、可降低局部热点温度等优点。
本发明授权一种偏中心的圆锥形头部梯度线圈及其设计方法在权利要求书中公布了：1.一种偏中心的圆锥形头部梯度线圈的设计方法，其特征在于，偏中心的圆锥形头部梯度线圈呈成像区域偏中心的圆锥形结构，其采用圆锥形结构和成像区域偏中心设置进行设计，具体包括： 设置圆锥形的线圈结构与尺寸，将圆锥形线圈结构的载流表面离散为由多个三角形组成的网格，并计算其中每个三角形的节点的电流基函数； 将成像区域向线圈入口端移动设定的距离，选取成像区域的磁场采样点，并计算磁场采样点处的目标磁场值； 将磁场采样点处Z方向的磁场分量用节点流函数值和电流基函数表示； 结合磁场采样点处的目标磁场值和Z方向的磁场分量，以线圈功耗最小化为优化目标，成像区域磁场线性度为约束条件构建优化问题； 求解优化问题，得到线圈的流函数分布； 利用流函数方法进行导线离散，得到线圈的绕线分布，从而得到偏中心的圆锥形头部梯度线圈。
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