中国科学院微电子研究所王嘉硕获国家专利权
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龙图腾网获悉中国科学院微电子研究所申请的专利光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115639731B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211384516.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质是由王嘉硕;韦亚一;董立松;范泰安;苏晓菁设计研发完成，并于2022-11-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质在说明书摘要公布了：本申请提供一种光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质，该方法包括：根据晶圆上初始图案中心偏移量和离焦变化量计算得到初始远心度，根据初始远心度、初始图案中心偏移量和引入单项干扰时的图案中心偏移量计算得到引入单项干扰时的远心度，作为第一等效远心度；根据初始远心度和引入多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，计算得到引入多项干扰时的远心度，作为第二等效远心度；根据第一等效远心度、第二等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第二远心偏差。从而本申请在掌握系统的初始图形放置误差和引入的系统扰动之后，不再需要额外的图形测量，即可以较高精度的预测光刻机投影物镜远心偏差，计算简单、检测成本低。
本发明授权光刻机投影物镜远心偏差的预测方法、装置、系统和介质在权利要求书中公布了：1.一种光刻机投影物镜远心偏差的预测方法，其特征在于，包括： 根据晶圆上初始图案中心偏移量和离焦变化量计算得到初始远心度； 当投影系统中存在单项干扰时，根据所述初始远心度、所述初始图案中心偏移量和引入所述单项干扰时的图案中心偏移量计算得到引入所述单项干扰时的远心度，作为第一等效远心度； 当投影系统中存在多项干扰时，根据所述初始远心度和引入所述多项干扰时的各个干扰分别对应的远心度，计算得到引入所述多项干扰时的远心度，作为第二等效远心度； 当投影系统中存在单项干扰时，根据所述第一等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第一远心偏差； 当投影系统中存在多项干扰时，根据所述第二等效远心度计算在不同离焦时的图案中心偏移作为第二远心偏差。
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