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天狼芯半导体(成都)有限公司陈涛获国家专利权

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龙图腾网获悉天狼芯半导体(成都)有限公司申请的专利一种氮化镓基HEMT器件及其制备方法及芯片获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115663017B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211310772.6,技术领域涉及:H10D62/10;该发明授权一种氮化镓基HEMT器件及其制备方法及芯片是由陈涛;黄汇钦设计研发完成,并于2022-10-25向国家知识产权局提交的专利申请。

一种氮化镓基HEMT器件及其制备方法及芯片在说明书摘要公布了:本申请属于半导体技术领域,提供了一种氮化镓基HEMT器件、制备方法及芯片,通过在氮化镓基HEMT器件内集成肖特基二极管,该肖特基二极管由沟道层、势垒层、背部盖帽层以及背部栅极层组成,背部栅极层设于背部盖帽层的背面,并与同样位于背部盖帽层背面的衬底层互不接触,通过对背部栅极层的电压动态控制,实现较低的正向导通电阻以及较高的器件耐压,提高了器件在非嵌位感性负载开关过程测试中的性能,解决了相关技术中由于GaN基的HEMT缺乏相应的寄生二极管,导致其在UIS测试中产生的回灌电流在器件内部振荡,对器件造成毁灭性损伤的技术问题。

本发明授权一种氮化镓基HEMT器件及其制备方法及芯片在权利要求书中公布了:1.一种氮化镓基HEMT器件,所述氮化镓基HEMT器件内集成肖特基二极管,其特征在于,所述肖特基二极管包括: 沟道层; 设于所述沟道层的正面的势垒层; 设于所述沟道层的背面的背部盖帽层; 设于所述势垒层的第一侧的欧姆金属层; 设于所述势垒层的第二侧的肖特基金属层;其中,所述欧姆金属层与所述氮化镓基HEMT器件的漏极电极连接,所述肖特基金属层与所述氮化镓基HEMT器件的源极电极连接; 设于所述背部盖帽层的背面的衬底层; 设于所述背部盖帽层的背面的背部栅极层,所述背部栅极层与所述衬底层互不接触。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人天狼芯半导体(成都)有限公司,其通讯地址为:610000 四川省成都市高新区吉泰路5路88号香年广场T3栋4201室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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