华虹半导体(无锡)有限公司郭超获国家专利权
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龙图腾网获悉华虹半导体(无锡)有限公司申请的专利曝光批次的控制方法和系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114740692B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210442530.6，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权曝光批次的控制方法和系统是由郭超;费志平;李玉华;姜冒泉;吴友根;魏育航设计研发完成，并于2022-04-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本曝光批次的控制方法和系统在说明书摘要公布了：本申请公开了一种曝光批次的控制方法和系统，该方法包括：获取曝光设备中当前运行的产品批次的曝光能量；获取后续的产品批次的曝光能量和对准精度；当当前运行的产品批次的曝光能量大于参考能量，且后续的产品批次的曝光能量小于参考能量时，将后续的产品批次中，对准精度的特征值大于等于参考值的排进第一队列，对准精度的特征值小于参考值的排进第二队列，对准精度的特征值越高对对准精度的要求越低；将后续的产品批次的作业顺序按照先运行第一队列，后运行第二队列的顺序进行作业。本申请通过在确定当前运行的产品批次的曝光能量较高时，将后续的产品批次中对对准精度要求不高的优先运行，避免了像差问题，提高了产线的良率。
本发明授权曝光批次的控制方法和系统在权利要求书中公布了：1.一种曝光批次的控制方法，其特征在于，包括： 获取曝光设备中当前运行的产品批次的曝光能量； 获取后续的产品批次的曝光能量和对准精度； 当所述当前运行的产品批次的曝光能量大于参考能量，且后续的产品批次的曝光能量小于所述参考能量时，将所述后续的产品批次中，对准精度的特征值大于等于参考值的排进第一队列，对准精度的特征值小于所述参考值的排进第二队列，对准精度的特征值越高对对准精度的要求越低； 将所述后续的产品批次的作业顺序按照先运行所述第一队列，后运行所述第二队列的顺序进行作业； 其中，在所述第一队列中，按照对准精度的特征值由高到低的顺序进行排序，在所述第二队列中，将对准精度相同的放在同一小组，在每个所述小组中，按照曝光能量由高到低的顺序进行排序。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华虹半导体(无锡)有限公司，其通讯地址为：214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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