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北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司陈右儒获国家专利权

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龙图腾网获悉北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司申请的专利触觉再现结构及其驱动方法、触控装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114779973B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210427317.8,技术领域涉及:G06F3/046;该发明授权触觉再现结构及其驱动方法、触控装置是由陈右儒设计研发完成,并于2022-04-21向国家知识产权局提交的专利申请。

触觉再现结构及其驱动方法、触控装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种触觉再现结构及其驱动方法、触控装置,该触觉再现结构包括:衬底基板以及与衬底基板连接的致动器。其中,衬底基板包括:第一柔性膜层、第二柔性膜层、磁场产生结构以及磁流体,第一柔性膜层与所述第二柔性膜层相对设置,磁流体填充在第一柔性膜层与第二柔性膜层之间的空腔内,磁场产生结构用于产生磁场,该磁场用于控制磁流体中磁性颗粒的排布,以调整衬底基板的刚度;致动器用于产生驻波,带动衬底基板振动。该结构不仅能够实现在柔性衬底上的触觉再现,还能够产生垂直于触控表面方向上的形变,有效地丰富了触觉再现的触感模拟功能。

本发明授权触觉再现结构及其驱动方法、触控装置在权利要求书中公布了:1.一种触觉再现结构,其特征在于,包括:衬底基板以及与所述衬底基板连接的致动器,其中: 所述衬底基板包括:第一柔性膜层、第二柔性膜层、磁场产生结构以及磁流体,所述第一柔性膜层与所述第二柔性膜层相对设置,所述磁流体填充在所述第一柔性膜层与所述第二柔性膜层之间的空腔内,所述磁场产生结构用于产生磁场,所述磁场用于控制所述磁流体中磁性颗粒的排布,以调整所述衬底基板的刚度; 所述致动器用于产生驻波,带动所述衬底基板振动; 所述磁场产生结构包括第一磁性层和第二磁性层,所述第一磁性层设置在所述第一柔性膜层的靠近所述第二柔性膜层的表面,所述第二磁性层设置在所述第二柔性膜层的靠近所述第一柔性膜层的表面,所述第一磁性层包括多个间隔设置的第一磁性单元,所述第二磁性层包括多个间隔设置的第二磁性单元,所述第一磁性单元与所述第二磁性单元的磁极相反,每个第一磁性单元与一个第二磁性单元在所述第二柔性膜层上的正投影至少部分重叠; 所述致动器设置在所述第一柔性膜层或所述第二柔性膜层的远离所述磁流体的表面,用于带动所述衬底基板沿垂直于衬底基板表面的方向振动,或者,所述致动器设置在所述衬底基板的侧面,用于带动所述衬底基板沿平行于衬底基板表面的方向振动。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人北京京东方技术开发有限公司;京东方科技集团股份有限公司,其通讯地址为:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区地泽路9号1幢407室;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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