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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115113483B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210264307.7，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法是由增永惠一;渡边聪;船津显之;小竹正晃;井上直也设计研发完成，并于2022-03-17向国家知识产权局提交的专利申请。

本化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明提供可形成有极高分辨率且LER小而矩形性优异，抑制了显影负载loading的影响的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包括基础聚合物，该基础聚合物含有：含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、或含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物、以及含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物；该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为60摩尔％以上。

本发明授权化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，含有由酸不稳定基团保护，会因酸作用而成为碱可溶性的基础聚合物， 该基础聚合物包括：含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元、苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，或 包括：含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元及苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物，以及含有酸产生单元、含苯酚性羟基的单元及羧基受酸不稳定基团保护的单元的聚合物； 该酸产生单元是下式A1～A8中的任一者表示的重复单元， 该含苯酚性羟基的单元是下式B1表示的重复单元， 该苯酚性羟基受酸不稳定基团保护的单元是下式B2表示的重复单元， 该羧基受酸不稳定基团保护的单元是下式B3表示的重复单元， 该基础聚合物中含有的聚合物的全部重复单元中，具有芳香环骨架的重复单元为60摩尔％以上； 式中，RA各自独立地为氢原子或甲基； X1为单键、碳数1～6的脂肪族亚烃基、亚苯基、亚萘基或将它们组合而获得的碳数7～18的基团、或*-O-X11-、*-C＝O-O-X11-或*-C＝O-NH-X11-，X11为碳数1～6的脂肪族亚烃基、亚苯基、亚萘基或将它们组合而获得的碳数7～18的基团，也可含有羰基、酯键、醚键或羟基； X2为单键或**-X21-C＝O-O-，X21为也可以含有杂原子的碳数1～20的亚烃基； X3为单键、亚甲基、亚乙基、亚苯基、氟化亚苯基、经三氟甲基取代的亚苯基、*-O-X31-、*-C＝O-O-X31-或*-C＝O-NH-X31-，X31为碳数1～6的脂肪族亚烃基、亚苯基、氟化亚苯基、经三氟甲基取代的亚苯基或它们组合而获得的碳数7～20的基团，也可含有羰基、酯键、醚键或羟基； *是和主链的碳原子间的原子键，**是和式中的氧原子间的原子键； X4为单键或也可以含有杂原子的碳数1～30的亚烃基； k1及k2各自独立地为0或1，但X4为单键时，k1及k2为0； R1～R18各自独立地为卤素原子、或也可以含有杂原子的碳数1～20的烃基；又，R1及R2亦可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环， R3及R4、R6及R7、或R9及R10亦可互相键结并和它们所键结的硫原子一起形成环， RHF为氢原子或三氟甲基； Xa-为非亲核性相对离子； 式中，RB为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基， R21为卤素原子、亦可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃羰氧基、亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、或亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃氧基， Y1为单键、*-C＝O-O-或*-C＝O-NH-，*是和主链的碳原子间的原子键； A1为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，构成该饱和亚烃基的-CH2-的一部分也可被-O-取代； a为符合0≤a≤5+2c-b的整数； b为1～3的整数， c为0～2的整数， 式中，RB同前述， R22为卤素原子、亦可被卤素原子取代的碳数2～8的饱和烃羰氧基、亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃基、或亦可被卤素原子取代的碳数1～6的饱和烃氧基， Y2为单键、*-C＝O-O-或*-C＝O-NH-，*是和主链的碳原子间的原子键， A2为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，构成该饱和亚烃基的-CH2-的一部分也可被-O-取代， R23在e为1时是酸不稳定基团，e为2以上时是氢原子或酸不稳定基团，但至少一者为酸不稳定基团； d为符合0≤d≤5+2f-e的整数； e为1～3的整数； f为0～2的整数； 式中，RB同前述， Y3为单键、亚苯基或亚萘基、或具有酯键、醚键或内酯环的碳数1～12的连接基团； R24为酸不稳定基团； 所述化学增幅正型抗蚀剂组成物更包括含有氟原子的聚合物，该含有氟原子的聚合物含有选自下式D3表示的重复单元、下式D4表示的重复单元、下式D5表示的重复单元及下式D6表示的重复单元中的至少1种，且亦可更含有选自下式D1表示的重复单元及下式D2表示的重复单元中的至少1种； 式中，RC各自独立地为氢原子或甲基， RD各自独立地为氢原子、氟原子、甲基或三氟甲基， R101为氢原子、或在碳-碳键间亦可插入了含杂原子的基团的直链状或分支状的碳数1～5的烃基， R102为在碳-碳键间亦可插入了含杂原子的基团的直链状或分支状的碳数1～5的烃基， R103为至少1个氢原子被氟原子取代的碳数1～20的饱和烃基，构成该饱和烃基的-CH2-的一部分亦可被酯键或醚键取代， R104、R105、R107及R108各自独立地为氢原子或碳数1～10的饱和烃基， R106、R109、R110及R111各自独立地为氢原子、碳数1～15的烃基、碳数1～15的氟化烃基或酸不稳定基团，R106、R109、R110及R111为烃基或氟化烃基时，碳-碳键间亦可插入了醚键或羰基； x为1～3的整数， y为符合0≤y≤5+2z-x的整数， z为0或1， m为1～3的整数， Z1为单键、*-C＝O-O-或*-C＝O-NH-，*是和主链的碳原子间的原子键， Z2为单键、-O-、*-C＝O-O-Z21-Z22-或*-C＝O-NH-Z21-Z22-，Z21为单键或碳数1～10的饱和亚烃基，Z22为单键、酯键、醚键或磺酰胺键，*是和主链的碳原子间的原子键， Z3为碳数1～20的m+1价的烃基或碳数1～20的m+1价的氟化烃基。

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