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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司申请的专利光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116413990B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111674610.6，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质是由严中稳;张戈设计研发完成，并于2021-12-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质，修正方法包括：提供修正后图形；检测修正后图形是否具有缺陷；在修正后图形具有缺陷的情况下，对修正后图形进行动态的修复处理，动态的循环迭代的修复处理中的调整量根据缺陷动态调整，修正后图形具有一种类型的缺陷时，将缺陷作为主缺陷，修正后图形具有多种类型缺陷时，选择其中一种类型的缺陷作为主缺陷，修复处理中出现的其余类型的缺陷均作为次缺陷，修复处理包括：根据缺陷的类型调整修正后图形；检测调整后的修正后图形是否具有缺陷，当调整后的所述修正后图形具有缺陷时，重复进行所述修复处理。本发明提高了修复处理的效率。

本发明授权光学邻近修正方法及系统、掩膜版、设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 提供经过光学邻近修正处理的修正后图形； 检测所述修正后图形是否具有缺陷； 在所述修正后图形不具有缺陷的情况下，将所述修正后图形作为目标图形； 在所述修正后图形具有缺陷的情况下，对所述修正后图形进行动态的循环迭代的修复处理，所述动态的循环迭代的修复处理中的调整量根据所述缺陷动态调整，其中，当所述修正后图形具有一种类型的缺陷时，将所述缺陷作为主缺陷，当所述修正后图形具有多种类型缺陷时，选择其中一种类型的缺陷作为主缺陷，并固定所述主缺陷对应的缺陷类型，修复处理中出现的其余类型的缺陷均作为次缺陷，所述修复处理包括： 根据所述缺陷的类型调整所述修正后图形，每种类型的缺陷都具有相对应的调整量； 检测调整后的所述修正后图形是否具有缺陷，且当调整后的所述修正后图形不具有缺陷时，所述修复处理完成，以调整后的所述修正后图形作为目标图形；当调整后的所述修正后图形具有缺陷时，重复进行所述修复处理； 其中，当所述修复处理的次数为多次时，以出现多种类型的缺陷后相继进行的修复处理作为动态修复处理，每次动态修复处理中所述主缺陷对应的调整量，均大于前一次修复处理中所述主缺陷对应的调整量。

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