潍坊星泰克微电子材料有限公司周元基获国家专利权
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龙图腾网获悉潍坊星泰克微电子材料有限公司申请的专利正性光刻胶组合物及其制备方法、应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114089602B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111417715.3，技术领域涉及：G03F7/039；该发明授权正性光刻胶组合物及其制备方法、应用是由周元基设计研发完成，并于2021-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。
本正性光刻胶组合物及其制备方法、应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种正性光刻胶组合物及其制备方法、应用，涉及光刻胶制备的技术领域，包括：酚醛树脂、交联剂、酸性催化剂、光致去活剂以及任选的溶剂，其中，光致去活剂包括阴离子引发剂。本发明正性光刻胶组合物属于化学放大光刻胶，其中的酚醛树脂具有优异的物理化学性能、合适的溶解速度和良好的成膜性，在非曝光区，酸性催化剂催化交联剂与酚醛树脂发生交联反应，而在曝光区经365nm或436nm波长紫外光曝光后，阴离子引发剂产生的化合物会使酸性催化剂失活，不再催化交联反应。本发明解决了光刻胶的光敏感性差导致曝光剂量需求量大的技术问题，达到了光刻胶的光敏感性强，曝光剂量需求小，提高生产效率和降低生产成本的技术效果。
本发明授权正性光刻胶组合物及其制备方法、应用在权利要求书中公布了：1.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，包括如下组分： 酚醛树脂、交联剂、酸性催化剂、光致去活剂以及任选的溶剂； 所述酚醛树脂包括通式（1）所代表的化合物； （1） 所述酚醛树脂的分子量Mw为1000-10000； 所述光致去活剂包括阴离子引发剂； 所述交联剂包括三聚氰胺、三聚氰胺磷酸盐、三聚氰胺衍生物改性聚氨酯以及苯代三聚氰胺中的至少一种； 所述酸性催化剂为有机酸和无机酸中的至少一种； 所述有机酸包括甲酸、乙酸、丙酸、甲磺酸、乙磺酸、丙磺酸以及对甲苯磺酸中的至少一种； 所述无机酸包括盐酸、硫酸、硝酸、磷酸以及氢氟酸中的至少一种； 所述阴离子引发剂包括乙酰苯O-苯甲酰肟。
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