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龙图腾网获悉AGC株式会社申请的专利化学强化玻璃和电子设备壳体获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116529216B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180080619.6，技术领域涉及：C03C21/00；该发明授权化学强化玻璃和电子设备壳体是由金原一树;黑岩裕设计研发完成，并于2021-09-03向国家知识产权局提交的专利申请。

本化学强化玻璃和电子设备壳体在说明书摘要公布了：本发明的目的在于提供兼具高频带的优异的无线电波透射性和高强度的化学强化玻璃。本发明涉及一种化学强化玻璃，所述化学强化玻璃的厚度为t单位：μm，所述化学强化玻璃在20℃、频率10GHz下的相对介电常数为7.0以下，其中，通过下式求出的Z为0.65以上，Z＝S2‑S1×10+X1000。上式中，S1为由玻璃的中心部分的碱离子量计算出的熵函数，S2为由从玻璃表面起到0.05t的深度为止的区域中的平均碱离子量计算出的熵函数，X为从玻璃表面起到深度为0.05t为止的区域中的压应力的平均值[单位：MPa]。

本发明授权化学强化玻璃和电子设备壳体在权利要求书中公布了：1.一种化学强化玻璃，所述化学强化玻璃的厚度为t单位：μm，所述化学强化玻璃在20℃、频率10GHz下的相对介电常数为7.0以下，其中， 以氧化物基准的摩尔百分率计，所述化学强化玻璃的基本组成含有： 40％～80％的SiO2、 0～20％的B2O3、 1％～25％的Al2O3、 7.1％以上的Li2O、 2％以下的K2O、 3％以下的CaO、 3％以下的MgO+CaO+SrO+BaO、和 合计5％～30％的Li2O和或Na2O， 通过下式求出的Z为0.65以上， Z＝S2-S1×10+X1000 上式中， S1为由玻璃的中心部分的碱离子量计算出的熵函数， S2为由从玻璃表面起到0.05t的深度为止的区域中的平均碱离子量计算出的熵函数， X为从玻璃表面起到深度为0.05t为止的区域中的压应力的平均值[单位：MPa]， 其中，熵函数S由各深度处的Li2O、Na2O和K2O的以氧化物基准的摩尔百分率计的含量[Li2O]、[Na2O]和[K2O]通过下式求出，在下式中，在[Li2O]、[Na2O]和[K2O]为零的情况下，熵函数S为1×10-4， S＝-[Li2O][Li2O]+[Na2O]+[K2O]log[Li2O][Li2O]+[Na2O] +[K2O]-[Na2O][Li2O]+[Na2O]+[K2O]log[Na2O][Li2O]+[Na2O]+[K2O]-[K2O][Li2O]+[Na2O]+[K2O]log[K2O][Li2O]+[Na2O]+[K2O]。

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