奥趋光电技术(杭州)有限公司吴亮获国家专利权
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龙图腾网获悉奥趋光电技术(杭州)有限公司申请的专利一种高频高性能SAW器件用碳化硅基AlScN模板及制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113871289B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202110971256.7,技术领域涉及:H01L21/02;该发明授权一种高频高性能SAW器件用碳化硅基AlScN模板及制备方法是由吴亮;付丹扬;王琦琨;龚建超设计研发完成,并于2021-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高频高性能SAW器件用碳化硅基AlScN模板及制备方法在说明书摘要公布了:本发明公开了一种高频高性能SAW器件用碳化硅基AlScN模板,该碳化硅基AlScN模板为多层结构,以单晶碳化硅为衬底,在碳化硅的抛光面上依次生长SiO2层、金属钝化层、AlN种子层、低浓度Sc掺杂的AlScN层以及高浓度Sc掺杂的AlScN层。采用本发明的制备方法,可以制备高结晶质量、高相速度、低表面粗糙度、高温度稳定性、高Sc浓度的AlScN薄膜。碳化硅衬底提供较高的相速度;SiO2层弥补高Sc浓度AlScN薄膜温度稳定差的弊端;AlN种子层,与AlScN晶格失配小提高结晶质量;低Sc浓度AlScN层,避免Sc元素提前析出,降低晶格失配;高Sc浓度AlScN层提供良好的压电性能。采用该多层结构能够更好地适用于基于体声波、声表面波器件的应用。
本发明授权一种高频高性能SAW器件用碳化硅基AlScN模板及制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高频高性能SAW器件用碳化硅基AlScN模板,其特征在于:所述碳化硅基AlScN模板为多层结构,以单晶碳化硅为衬底,在碳化硅的抛光面上依次生长有SiO2层、金属钝化层、AlN种子层、低浓度Sc掺杂的AlScN层以及高浓度Sc掺杂的AlScN层; 其中:所述低浓度Sc掺杂的AlScN层化学式为Al1-xScxN,其中x≤0.3;所述高浓度Sc掺杂的AlScN层化学式为Al1-yScyN,其中0.3≤y≤0.6。
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