信越化学工业株式会社寺泽恒男获国家专利权
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龙图腾网获悉信越化学工业株式会社申请的专利基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114113100B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110969576.9，技术领域涉及：G01N21/88；该发明授权基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置是由寺泽恒男;稻月判臣;金子英雄设计研发完成，并于2021-08-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置在说明书摘要公布了：提供一种基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置，在利用来自被检查基板的散射光的暗视场检查中，能够适当设定确定检测灵敏度的阈值而实现可靠性高的相位缺陷检查。一种基板的缺陷检查方法，具有：在第一聚光光学系统中向被检查基板照射来自EUV光源的EUV光的工序；在第二聚光光学系统中向传感器的受光面引导从被检查基板反射的反射光中的除去正反射光的散射光的工序；当接受的散射光的强度超过规定的阈值时，判断为在被检查基板的EUV光的照射处存在缺陷的工序，该方法具有：反射率获取工序，在向被检查基板照射EUV光之前预先获得被检查基板的EUV光的反射率；阈值运算工序，基于在该反射率获取工序中获得的反射率确定规定的阈值。
本发明授权基板的缺陷检查方法及缺陷检查装置在权利要求书中公布了：1.一种基板的缺陷检查方法，具备： 使用第一聚光光学系统向被检查基板照射从EUV光源发出的EUV光的工序； 使用第二聚光光学系统向传感器的受光面引导从照射有所述EUV光的所述被检查基板反射的反射光中的除去正反射光的散射光的工序；以及 当在所述传感器的受光面接受的所述散射光的强度超过规定的阈值时，判断为在所述被检查基板的所述EUV光的照射处存在缺陷的工序， 其特征在于， 在向所述被检查基板照射所述EUV光之前，预先具有： 反射率获取工序，获得所述被检查基板的EUV光的反射率；以及 阈值运算工序，基于在该反射率获取工序中获得的所述反射率确定所述规定的阈值。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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