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龙图腾网获悉苏州大学;京东方光科技有限公司申请的专利应用于mini-LED阵列光源的匀光膜获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113325627B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110455002.X，技术领域涉及：G02F1/13357；该发明授权应用于mini-LED阵列光源的匀光膜是由周云;张恒;王钦华;方宗豹;陈林森;孟德宇;陆平英;陈华锋;武荣风;詹智诚设计研发完成，并于2021-04-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本应用于mini-LED阵列光源的匀光膜在说明书摘要公布了：本发明涉及一种应用于mini‑LED阵列光源的匀光膜，包括：基层，所述基层为透光结构；发光反射复合层，其位于所述基层的一侧，所述发光反射复合层包括反射层和多个发光件，所述发射层上开设有多个容纳孔，所述发光件设置在所述容纳孔内，所述发光件的发光面朝向所述基层设置；光栅层，其位于所述基层的另一侧，所述光栅层包括多个像素式金属光栅单元，所述像素式金属光栅单元与所述容纳孔一一对应设置。其出光均匀，光能利用率高，将发光件发出的光转化为TM偏振光，可省去背光模组的偏振片组件，有利于显示系统向轻薄化的趋势发展。

本发明授权应用于mini-LED阵列光源的匀光膜在权利要求书中公布了：1.一种应用于mini-LED阵列光源的匀光膜，其特征在于，包括： 基层，所述基层为透光结构； 发光反射复合层，其位于所述基层的一侧，所述发光反射复合层包括反射层和多个发光件，所述反射层上开设有多个容纳孔，所述发光件设置在所述容纳孔内，所述发光件的发光面朝向所述基层设置； 光栅层，其位于所述基层的另一侧，所述光栅层包括多个像素式金属光栅单元，所述像素式金属光栅单元与所述容纳孔一一对应设置； 所述光栅层的设计方法如下： 测定像素式金属光栅单元上各个点与像素式金属光栅单元对应的发光件之间的距离，获得距离的数据集；根据距离的数据集和发光件在像素式金属光栅单元处的光强，计算TM偏振光的总透过率以使得金属光栅单元上各个点的光线均匀出射； 所述距离的数据集、发光件在像素式金属光栅单元处的光强和匀光膜对于TM偏振光的总透过率，满足：其中，I为发光件在像素式金属光栅单元处预设点的光强，T为匀光膜上预设点对于TM偏振光的总透过率，a为发光件到像素式金属光栅单元处预设点的距离，m为定值； 所述匀光膜上预设点对于TM偏振光的总透过率T满足： 其中，T0为像素式金属光栅单元对于TM偏振光的透过率，R0为像素式金属光栅单元对于TM偏振光的反射率，α为反射层将没有透过像素式金属光栅单元的TM偏振光反射的反射率，β为像素式金属光栅单元反射的TE偏振光转换为TM偏振光的反射率。

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