东京毅力科创株式会社荒竹英将获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利基片处理装置和装置清洗方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112687577B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-01发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202011078492.8，技术领域涉及：H01L21/67；该发明授权基片处理装置和装置清洗方法是由荒竹英将;黑田修;金川耕三设计研发完成，并于2020-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本基片处理装置和装置清洗方法在说明书摘要公布了：本发明提供在进行批处理的基片处理装置中，能够抑制排液管路的堵塞的基片处理装置和装置清洗方法。本发明的基片处理装置包括：处理槽、承液部、承液部排出管、贮存部、第一液供给管、第二液供给管、释放管、第一液流量调节部和第二液流量调节部。承液部承接从处理槽洒出的处理液。承液部排出管从承液部排出处理液。第一液供给管供给清洗液的第一液，该清洗液含有第一液和第二液，用于除去来自处理液的析出物。第二液供给管供给第二液。释放管与第一液供给管和第二液供给管连接，向承液部释放清洗液、第一液或第二液。第一液流量调节部设置于第一液供给管，调节在第一液供给管中流动的第一液的流量。第二液流量调节部设置于第二液供给管，调节在第二液供给管中流动的第二液的流量。
本发明授权基片处理装置和装置清洗方法在权利要求书中公布了：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括： 能够收纳多个基片的贮存处理液的处理槽； 承接从所述处理槽洒出的所述处理液的承液部； 从所述承液部排出所述处理液的承液部排出管； 贮存部，其经由所述承液部排出管与所述承液部连接，贮存从所述承液部排出的所述处理液； 供给清洗液的第一液的第一液供给管，其中所述清洗液含有所述第一液和第二液，用于除去来自所述处理液的析出物； 供给所述第二液的第二液供给管； 释放管，其与所述第一液供给管和所述第二液供给管连接，向所述承液部释放所述清洗液、所述第一液或所述第二液； 第一液流量调节部，其设置于所述第一液供给管，调节在所述第一液供给管中流动的所述第一液的流量；以及 第二液流量调节部，其设置于所述第二液供给管，调节在所述第二液供给管中流动的所述第二液的流量。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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