中国计量大学常菲帆获国家专利权
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龙图腾网获悉中国计量大学申请的专利一种基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料及其制备方法与应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120173243B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510662073.5，技术领域涉及：C08G77/38；该发明授权一种基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料及其制备方法与应用是由常菲帆;李一凡;卫国英;任骊;吉翠萍;朱本峰设计研发完成，并于2025-05-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料及其制备方法与应用在说明书摘要公布了：本发明公开了一种基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料及其制备方法与应用，属于新型材料领域，通过双3‑氨丙基封端的聚二甲基硅氧烷的氨基和醛基小分子化合物的醛基进行席夫碱缩合反应得到预聚物，再向所述预聚物中添加金属离子进行配位反应，形成可逆金属配位键，反应结束后去除溶剂，即得到所述基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料。本发明所形成的三维结构含有大量的可逆金属配位键，在增强材料刚性和力学强度的同时，还保证了材料具有良好的自修复性能以及可加工回收性。本发明的含配位键的自修复聚硅氧烷材料可应用于胶粘剂、密封剂、快速自修复涂层和复合材料等领域。
本发明授权一种基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料及其制备方法与应用在权利要求书中公布了：1.一种基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料的制备方法，其特征在于，通过双3-氨丙基封端的聚二甲基硅氧烷的氨基和醛基小分子化合物的醛基进行席夫碱缩合反应得到预聚物，再向所述预聚物中添加金属离子进行配位反应，形成可逆金属配位键，反应结束后去除溶剂，即得到所述基于配位键的低温自修复聚硅氧烷材料； 所述醛基小分子化合物为8-羟基喹啉-2-甲醛； 所述双3-氨丙基封端的聚二甲基硅氧烷分子量为1000-3000； 所述金属离子为Zn2+、Cu2+、Fe3+、Co2+、Ni2+、Eu3+、Tb3+中的一种； 所述双3-氨丙基封端的聚二甲基硅氧烷和醛基小分子化合物的摩尔比为1：2； 所述金属离子与预聚物的摩尔比为1:（1-2）。
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