株式会社LG化学金正云获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社LG化学申请的专利光学装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN116420112B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180069842.0,技术领域涉及:G02F1/1337;该发明授权光学装置是由金正云;吴东炫;柳正善;金真弘;林恩政;金旼俊设计研发完成,并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学装置在说明书摘要公布了:本申请涉及光学装置。本申请的光学装置可以通过适当地保持液晶元件的单元间隙,在上基底与下基底之间具有优异的附接力,并使外基底的层合过程中诸如挤压或集聚的缺陷最小化来确保结构稳定性和良好的品质均匀性。
本发明授权光学装置在权利要求书中公布了:1.一种光学装置,包括: 第一外基底; 与所述第一外基底相对设置的第二外基底; 定位在所述第一外基底与所述第二外基底之间的液晶元件;以及 定位在所述第一外基底与所述液晶元件之间以及所述第二外基底与所述液晶元件之间的至少一个中间层,其中 所述液晶元件包括第一基础层、形成在所述第一基础层的内侧上的压敏粘合剂层、与所述第一基础层相对设置的第二基础层、形成在所述第二基础层的内侧上的间隔物、以及定位在所述第一基础层与所述第二基础层之间并且包含液晶化合物和二色性染料的液晶层, 其中所述压敏粘合剂层的储能弹性模量在0.01MPa至1MPa的范围内, 其中所述至少一个中间层的储能弹性模量各自在2MPa至100MPa的范围内,以及 所述至少一个中间层的总厚度之和在1,100μm至6,000μm的范围内。
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