应用材料公司X·常获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN110610844B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910524333.7，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备是由X·常;A·恩古耶设计研发完成，并于2019-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备在说明书摘要公布了：本文提供用于在基板支撑件中使用的工艺配件部件的实施方式以及结合有所述实施方式的基板支撑件。在一些实施方式中，所述基板支撑件可以包括：主体；接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成；衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘；金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置以将所述衬里耦接到所述接地外壳；以及第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并覆盖所述金属紧固件。
本发明授权用于减少等离子体蚀刻腔室中的污染的设备在权利要求书中公布了：1.一种基板支撑件，包括： 主体； 接地外壳，所述接地外壳由围绕所述主体设置的导电材料形成； 衬里，所述衬里由围绕所述接地外壳设置的导电材料形成，其中所述衬里包括朝向所述主体向内延伸的上唇缘； 金属紧固件，所述金属紧固件穿过所述上唇缘设置并且将所述衬里耦接到所述接地外壳； 第一绝缘体环，所述第一绝缘体环设置在所述衬里的所述上唇缘顶上并且覆盖所述金属紧固件；以及 第二绝缘体环，所述第二绝缘体环设置在所述第一绝缘体环与所述主体之间，其中所述第一绝缘体环的外径与所述第二绝缘体环的外径相同。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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