深圳光峰科技股份有限公司胡飞获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳光峰科技股份有限公司申请的专利光源系统以及投影显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN113495419B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-08发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202010264969.5,技术领域涉及:G03B21/20;该发明授权光源系统以及投影显示装置是由胡飞;吴超;李屹设计研发完成,并于2020-04-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本光源系统以及投影显示装置在说明书摘要公布了:本申请公开了一种光源系统以及投影显示装置,该光源系统包括第一光源组件、第二光源组件、波长转换装置以及匀光装置,第一光源组件用于出射至少两束激发光;第二光源组件用于出射至少一束激光;波长转换装置设置于至少两束激发光的光路上,用于将接收的至少两束激发光转换为至少两束受激光;匀光装置用于对受激光和激光进行匀光处理;受激光和激光分别在匀光装置的入光侧形成受激光光斑和激光光斑,激光光斑位于两相邻的受激光光斑之间,两相邻的受激光光斑关于激光光斑对称,或者受激光光斑位于两相邻的激光光斑之间,两相邻的激光光斑关于受激光光斑对称,通过上述设置,能够提升光源系统出光的均匀性,从而提高投影显示的均匀性。
本发明授权光源系统以及投影显示装置在权利要求书中公布了:1.一种光源系统,其特征在于,包括: 第一光源组件,用于出射至少两束激发光; 第二光源组件,用于出射至少一束激光; 波长转换装置,设置于所述至少两束激发光的光路上,用于将接收的所述至少两束激发光转换为至少两束受激光; 匀光装置,设置在所述受激光和所述激光的光路上,用于对所述受激光和所述激光进行匀光处理; 其中,所述受激光和所述激光分别在所述匀光装置的入光侧形成受激光光斑和激光光斑,所述激光光斑位于两相邻的所述受激光光斑之间,两相邻的所述受激光光斑关于所述激光光斑对称,或者所述受激光光斑位于两相邻的所述激光光斑之间,两相邻的所述激光光斑关于所述受激光光斑对称。
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