全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术有限公司申请的专利用于光学邻近校正的方法、电子设备及存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120065619B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510549996.X，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权用于光学邻近校正的方法、电子设备及存储介质是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光学邻近校正的方法、电子设备及存储介质在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及用于光学邻近校正的方法、电子设备及存储介质。该方法包括：确定设计版图中的测试图形的尺寸与将设计版图作为掩模版图在晶圆上形成的光刻图形的量测尺寸之间的差值；基于测试图形的边界性质以及差值对设计版图中的测试图形的边界进行预调节以形成预调节边界；以及以预调节边界作为起始边界对设计版图进行光学邻近校正。本公开的技术方案能够极大地减少OPC修正程序运行所需要的时间，并且能够防止出现过度修正或者修正方向错误的情况。
本发明授权用于光学邻近校正的方法、电子设备及存储介质在权利要求书中公布了：1.一种用于光学邻近校正的方法，包括： 确定设计版图中的测试图形的尺寸与将所述设计版图作为掩模版图在晶圆上形成的光刻图形的量测尺寸之间的差值，其中确定所述差值不考虑所述测试图形中尺寸小于最小设计规则的结构； 基于所述测试图形的边界性质以及所述差值对所述测试图形的边界进行预调节以形成预调节边界，具体包括：基于所述测试图形的边界性质确定所述测试图形的类型，以及基于所述测试图形的类型相应地移动所述测试图形的边界；以及 以所述预调节边界作为起始边界对所述设计版图进行光学邻近校正。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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