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朗姆研究公司克里斯托弗·金博尔获国家专利权

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龙图腾网获悉朗姆研究公司申请的专利用于衬底处理系统的具有降低电容变化的可移动边缘环获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114207769B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-12发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202080056085.9,技术领域涉及:H01J37/32;该发明授权用于衬底处理系统的具有降低电容变化的可移动边缘环是由克里斯托弗·金博尔;赫马·斯沃普·莫皮迪维;萨拉瓦纳普里亚·西里拉曼;汤姆·A·坎普;达雷尔·埃利希;安东尼·孔特雷拉斯;奇亚拉·海伦娜·凯瑟琳娜·贾曼科·麦克弗森设计研发完成,并于2020-08-04向国家知识产权局提交的专利申请。

用于衬底处理系统的具有降低电容变化的可移动边缘环在说明书摘要公布了:一种用于等离子体处理系统的可移动边缘环系统包括:顶部边缘环;以及第一边缘环,其布置于所述顶部边缘环下方。第二边缘环由导电材料制成,并且包括上部、中间部和下部。所述顶部边缘环和所述第二边缘环被配置成在被升降销向上偏移时于竖直方向上相对于衬底支撑件和所述第一边缘环移动。所述第二边缘环被布置于所述顶部边缘环下方并且在所述第一边缘环的径向外侧。

本发明授权用于衬底处理系统的具有降低电容变化的可移动边缘环在权利要求书中公布了:1.一种用于等离子体处理系统的边缘环,所述边缘环包括: 第一环形体,其被配置为在等离子体处理期间围绕衬底支撑件; 上表面; 下表面; 径向内表面; 径向外表面;以及 N个间隔物,其布置在所述边缘环的所述径向外表面上的N个间隔位置,以在等离子体处理期间,当所述边缘环被加热和冷却时,减少所述边缘环的所述第一环形体和与所述边缘环分离的第二边缘环之间的预定间隙的变化,其中N为大于或等于3且小于或等于8的整数, 其中,所述N个间隔物从所述第一环形体的所述径向外表面径向向外延伸到足以限制所述边缘环的所述第一环形体在等离子体处理期间的加热和冷却期间相对于第二边缘环的移动的距离。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人朗姆研究公司,其通讯地址为:美国加利福尼亚州;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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