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龙图腾网获悉云南大学;云南临沧鑫圆锗业股份有限公司申请的专利一种纳米级高纯二氧化锗的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117819592B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410062556.7，技术领域涉及：C01G17/02；该发明授权一种纳米级高纯二氧化锗的制备方法是由普世坤;蒯志奎;吴涛;吴王昌;李正美;侯志毅;张朝阳;王仙琴;赵思琪;陈代凤;王美春;林作亮;李长林设计研发完成，并于2024-01-16向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种纳米级高纯二氧化锗的制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于稀有金属高纯材料制备技术领域，具体涉及纳米级高纯二氧化锗的制备方法，准备高纯四氯化锗、聚乙烯醇溶液和水，混合搅拌配制成混合溶液，然后通过水解反应提取二氧化锗，对生成的高纯二氧化锗再利用超声波进行强化来制备纳米级二氧化锗，以得到更小粒径的高纯二氧化锗。

本发明授权一种纳米级高纯二氧化锗的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种纳米级高纯二氧化锗的制备方法，其特征在于包括如下步骤： S1：原料准备，取50~500mL的高纯四氯化锗；配制5%聚乙烯醇溶液，并取0.05~0.10mL的5%聚乙烯醇溶液和50mL高纯水，混合搅拌配制成混合溶液； S2：水解反应，先在水解反应器内加入100-1000mL高纯水，再将高纯四氯化锗和混合溶液按照1：7~21的体积比分别加入到水解反应器，高纯四氯化锗的加入速度为1~2mLmin，混合溶液的加入速度为高纯四氯化锗加入速度的7-21倍，加入过程充分搅拌，搅拌速率为70~80rmin，并在水解反应器外设置夹套确保水解反应器内溶液的温度控制在35-45℃； S3：提取二氧化锗，抽滤反应产物，使生成的二氧化锗与水解母液分离；用20℃的高纯水对分离出的二氧化锗进行冲洗2-3次，每次用水量50~60mL，每次洗涤完再抽滤干净； S4：超声波强化，将过滤洗涤后得到的二氧化锗放置于超声强化器内，采用频率为50~500KHz的超声波进行强化，时间为15~30min，通过超声波的高频率振动使大颗粒发生解析断裂成小颗粒分子分散于溶液中； S5：二次真空过滤，将超声波处理完成的含二氧化锗的溶液用真空泵进行抽滤，分离出高纯二氧化锗； S6：进一步提纯，用20℃的高纯水对分离出的高纯二氧化锗进行冲洗2-3次，每次用水量50mL-60mL，每次洗涤完再抽滤干净；用鼓风干燥箱在120℃的条件下对过滤洗涤得到的高纯二氧化锗进行烘干处理；最后用马弗炉在600℃下进行焙烧，得到99.999%纯度的纳米级高纯二氧化锗。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人云南大学;云南临沧鑫圆锗业股份有限公司，其通讯地址为：650091 云南省昆明市五华区翠湖北路2号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。