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龙图腾网获悉苏州清研半导体科技有限公司申请的专利一种碳化钽涂层的制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117185841B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311236841.8，技术领域涉及：C04B41/89；该发明授权一种碳化钽涂层的制备方法是由石林;陈鹏飞;罗胜益;梁刚强;杨倩倩设计研发完成，并于2023-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种碳化钽涂层的制备方法在说明书摘要公布了：本发明属于半导体晶体生长技术领域，具体涉及一种碳化钽涂层的制备方法。在本发明中，钽的添加增加了涂层与基材的结合性能，氧化钽的添加增强了碳化钽烧结时的扩散性，有利于实现烧结的致密化并降低烧结温度。同时将CVD工艺与烧结法相结合，有利于获得高纯度、低表面粗糙度的碳化钽涂层。此外由于碳化钽的扩散性较差，因此在烧结的过程中，不可避免的存在少量未能被碳化钽覆盖的孔隙，因此通过CVD工艺使得烧结碳化钽过程中残留的孔洞被掩盖，有效提高碳基材的耐腐蚀性。

本发明授权一种碳化钽涂层的制备方法在权利要求书中公布了：1.一种碳化钽涂层的制备方法，其特征在于，步骤为： 将固体混合料、粘结剂和有机溶剂混合，得到浆料；所述固体混合料由氧化钽、钽和碳化钽组成；所述固体混合料在所述浆料中的质量浓度为50～80％；所述碳化钽在所述固体混合料中的质量百分含量为50～99％；所述钽在所述固体混合料中的质量百分含量为0.1～20％；所述氧化钽在所述固体混合料中的质量百分含量为0.1～20％； 将所述浆料涂覆在碳基体的表面，依次进行固化和烧结，得到烧结涂层； 在所述烧结涂层的表面化学气相沉积碳化钽，得到所述碳化钽涂层； 所述化学气相沉积的温度为1000～2200℃，保温时间为1～10h，压力为0.1～90kPa； 所述化学气相沉积在混合气氛中进行，所述混合气氛由氯化钽、氩气、烃类气体和氢气组成； 所述氯化钽和氢气的摩尔比为1：5～30； 所述化学气相沉积为依次进行第一化学气相沉积和第二化学气相沉积； 所述第一化学气相沉积中，所述氯化钽和所述烃类气体中的碳原子的摩尔比为1：1～1.5且不包括1：1；所述第一化学气相沉积的时间为0.1～5h； 所述第二化学气相沉积中，所述氯化钽和所述烃类气体中的碳原子的摩尔比为1：1；所述第二化学气相沉积的时间为0.1～5h。

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