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龙图腾网获悉天津吉兆源科技有限公司申请的专利一种均匀性调节装置及磁控溅射真空镀膜机获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117004917B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311019730.1，技术领域涉及：C23C14/54；该发明授权一种均匀性调节装置及磁控溅射真空镀膜机是由李树瑜;郑芬设计研发完成，并于2023-08-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种均匀性调节装置及磁控溅射真空镀膜机在说明书摘要公布了：本发明公开了一种均匀性调节装置及磁控溅射真空镀膜机，包括主体（8）和均匀性调节装置（6），主体（8）包括射频电源（1）、射频匹配器（2）、真空屏蔽罩（3）和旋转阴极柱状靶（4）；均匀性调节装置（6）中包括谐振电路，该谐振电路由多档位调节电感（12）和可调电容（14）串联构成，多档位调节电感（12）和穿墙件（7）的一端相连，穿墙件（7）的另一端与旋转阴极柱状靶（4）的悬空端（42）相连；旋转阴极柱状靶（4）和所述均匀性调节装置（6）作为可调节的共同负载，用于实现加载在旋转阴极柱状靶（4）上的射频电压分布的均匀调节。与现有技术相比，本发明实现了在不改变真空镀膜机原有结构设计的基础上改善其溅射均匀性。

本发明授权一种均匀性调节装置及磁控溅射真空镀膜机在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射真空镀膜机，其特征在于，包括：主体（8）和均匀性调节装置（6），所述主体（8）包括射频电源（1）、射频匹配器（2）、真空屏蔽罩（3）、旋转阴极柱状靶（4），所述旋转阴极柱状靶（4）的悬空端（42）连接均匀性调节装置（6），所述旋转阴极柱状靶（4）和所述均匀性调节装置（6）作为可调节的共同负载，用于实现加载在旋转阴极柱状靶（4）上的射频电压分布的均匀调节； 其中，所述射频电源（1）和所述射频匹配器（2）相连，所述射频匹配器（2）与所述旋转阴极柱状靶（4）的阳极（41）相连，所述射频匹配器（2）接地，所述旋转阴极柱状靶（4）设置在真空屏蔽罩（3）中，所述旋转阴极柱状靶（4）的悬空端（42）输出射频电压；所述均匀性调节装置（6）中的多档位调节电感（12）和穿墙件（7）的一端相连，所述穿墙件（7）的另一端与旋转阴极柱状靶（4）的悬空端（42）相连，所述穿墙件（7）固定在真空屏蔽罩（3）上；所述均匀性调节装置包括金属外壳（11）和前面板（17）和谐振电路（21）；所述谐振电路设置于所述金属外壳（11）中，该谐振电路由多档位调节电感（12）和可调电容（14）串联构成，所述前面板（17）上设置与所述多档位调节电感（12）相连的电容调节旋钮（15）和与所述多档位调节电感（12）相连的档位调节旋钮（18），所述多档位调节电感（12）上加载射频电压，所述可调电容（14）与所述金属外壳（11）相连，所述金属外壳（11）接地。

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