京东方科技集团股份有限公司李柳青获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利移相器及其制备方法、天线获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115986343B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-15发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310107939.7，技术领域涉及：H01P1/18；该发明授权移相器及其制备方法、天线是由李柳青;崔钊;卢鑫泓;董水浪;周靖上;李国腾;杨少鹏;曹占锋;曲峰设计研发完成，并于2023-01-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本移相器及其制备方法、天线在说明书摘要公布了：本公开提供一种移相器及其制备方法、天线，属于通信技术领域。本公开的移相器，其包括：第一介质基板，其具有相对设置的第一表面和第二表面；第一介质基板包括第一槽部和第二槽部；第二介质基板和第三介质基板均与第一介质基板相对设置；移相器还包括至少一个第一移相单元和至少一个第二移相单元；其中，第一移相单元包括设置在第一槽部内的第一电极，设置在第二介质基板靠近第一介质基板一侧的第二电极，以及位于第一电极和第二电极之间的第一可调电介质层；第二移相单元包括设置在第二槽部内的第三电极，设置在第三介质基板靠近第一介质基板一侧的第四电极，以及位于第一电极和第四电极之间的第二可调电介质层。
本发明授权移相器及其制备方法、天线在权利要求书中公布了：1.一种移相器，其包括： 第一介质基板，其具有相对设置的第一表面和第二表面；所述第一介质基板包括贯穿所述第一表面的第一槽部和贯穿所述第二表面的第二槽部； 第二介质基板和第三介质基板，均与所述第一介质基板相对设置，且所述第二介质基板设置在所述第一表面背离所述第二表面的一侧，所述第三介质基板设置在所述第二表面背离所述第一表面的一侧； 所述移相器还包括至少一个第一移相单元和至少一个第二移相单元；其中， 所述第一移相单元包括设置在所述第一槽部内的第一电极，设置在所述第二介质基板靠近所述第一介质基板一侧的第二电极，以及位于所述第一电极和所述第二电极之间的第一可调电介质层； 所述第二移相单元包括设置在所述第二槽部内的第三电极，设置在所述第三介质基板靠近所述第一介质基板一侧的第四电极，以及位于所述第三电极和所述第四电极之间的第二可调电介质层。
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