深圳市汉嵙新材料技术有限公司蔡比亚获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市汉嵙新材料技术有限公司申请的专利高反射率光学膜及背光模组获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223244844U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521449678.8，技术领域涉及：G02B5/08；该实用新型高反射率光学膜及背光模组是由蔡比亚;王荣福;朱海峰;袁昌理设计研发完成，并于2025-07-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本高反射率光学膜及背光模组在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种高反射率光学膜及背光模组。上述高反射率光学膜包括层叠设置的双向拉伸聚丙烯层以及银层，双向拉伸聚丙烯层中掺杂有无机填料颗粒，粒径为20nm~400nm，双向拉伸聚丙烯层中分布有微孔，孔径为0.1μm~5μm。利用双向拉伸聚丙烯的高反射率，并利用无机填料颗粒对光线进行散射，利用微孔实现漫反射的效果，将大角度入射光转化为朝向导光板的反射光，提高光线利用率。银层的反射效果优于双向拉伸聚丙烯层，但银层对于入射光的吸收率为2%~5%，而双向拉伸聚丙烯层的吸收接近于零，通过将双向拉伸聚丙烯层与银层结合，双向拉伸聚丙烯层反射大部分光线的同时减少光吸收，银层进一步将逃逸光线进行高效反射。
本实用新型高反射率光学膜及背光模组在权利要求书中公布了：1.一种高反射率光学膜，其特征在于，包括层叠设置的双向拉伸聚丙烯层以及银层，所述双向拉伸聚丙烯层中掺杂有无机填料颗粒，所述无机填料颗粒的粒径为20nm~400nm，所述双向拉伸聚丙烯层中分布有微孔，所述微孔的孔径为0.1μm~5μm。
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