全芯智造技术有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉全芯智造技术有限公司申请的专利制造掩模和集成电路的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120221396B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-08-22发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510694212.2，技术领域涉及：H01L21/027；该发明授权制造掩模和集成电路的方法是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-05-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本制造掩模和集成电路的方法在说明书摘要公布了：本公开的实施例涉及半导体制造技术，并且提供了制造掩模和集成电路的方法。制造掩模的方法包括：将集成电路有源层的版图图形划分为第一图形部分和第二图形部分；对第一图形部分和第二图形部分进行修正；以及基于修正后的第一图形部分和第二图形部分，分别确定用于第一掩模的制造数据和用于第二掩模的制造数据，第一掩模和第二掩模分别在修正后的第一图形部分和第二图形部分处形成透光区域。
本发明授权制造掩模和集成电路的方法在权利要求书中公布了：1.一种制造掩模的方法，包括： 将集成电路有源层的版图图形划分为第一图形部分和第二图形部分； 对所述第一图形部分和所述第二图形部分进行修正；以及 基于修正后的所述第一图形部分和所述第二图形部分，分别确定用于第一掩模的制造数据和用于第二掩模的制造数据，所述第一掩模和所述第二掩模分别在修正后的所述第一图形部分和所述第二图形部分处形成透光区域。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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